分子動力学法とモンテカルロ法を統合しためっきのシミュレーションシステムの開発

2008 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 18560059
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 工学基礎
• 研究機関: 京都大学
• 研究代表者: 金子 豊 京都大学, 大学院・情報学研究科, 助教 (00169583)
• 研究期間 (年度): 2006 – 2008
• キーワード: めっき / 分子動力学法 / モンテカルロ法 / 添加剤

研究概要

分子スケールでのめっきの新しいシミュレーション法として分子動力学法とモンテカルロ法を統合した方法を開発し、表面処理分野に必要なめっきのシミュレーションシステムを構築した。このシステムを用いて、溶液中の添加剤の作用を解析し、添加剤の平滑作用と孔埋め込みへの影響について多くの知見を得た。さらに、めっきによるLSI配線作成の動的モンテカルロ計算のプログラムを開発し、欠陥を含まない配線作成に最適な添加剤の条件の探索を可能とした。

研究成果

• [雑誌論文] Molecular Simulation Approach to the Effects of Additives in Electrodeposition Process (2009)
  • 著者名/発表者名: S. Nishimura, Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • 雑誌名: ECS Transaction-Honolulu HI Vol.16
  • 査読あり
• [雑誌論文] Monte Carlo and Molecular Dynamics Studies of the Effects of Additives in Electrodeposition (2009)
  • 著者名/発表者名: Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • 雑誌名: Journal of Korean Physical Society Vol.54, No.3 ページ: 1207-1211
  • 査読あり
• [雑誌論文] Kinetic Monte Carlo Simulation of Via Filling : Role of Chloride Ions (2008)
  • 著者名/発表者名: Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • 雑誌名: ECS Transaction-Phoenix AZ Vol.13 No.12 ページ: 1-9
  • 査読あり
• [学会発表] Molecular Simulation Approach to the Effects of Additives in Electrodeposition Process (2008)
  • 著者名/発表者名: S. Nishimura, Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • 学会等名: Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science (Joint international meeting ; 214th Meeting of ECS and 2008 Fall Meeting of The Electrochemical Society of Japan)
  • 発表場所: Honolulu, HI, USA
  • 年月日: 2008-10-15
• [学会発表] Monte Carlo and Molecular Dynamics Studies of the Effects of Additives in Electrodeposition (2008)
  • 著者名/発表者名: Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • 学会等名: 17th World Interfinish Congress and Exposition
  • 発表場所: Pusan, Korea
  • 年月日: 2008-06-18
• [学会発表] 電気的析出における抑制効果を持つ添加剤の効果 : 分子動力学法とモンテカルロ法の統合シミュレーション (2008)
  • 著者名/発表者名: 金子豊, 西村修一, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • 学会等名: 電気化学会第75回大会
  • 発表場所: 山梨大学
  • 年月日: 2008-03-31
• [学会発表] 電気銅めっきによる孔埋め込における塩化物イオンの効果-分子シミュレーションによるアプローチ- (2008)
  • 著者名/発表者名: 金子豊, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • 学会等名: 表面技術協会第117回講演大会
  • 発表場所: 日本大学津田沼
  • 年月日: 2008-03-13
• [学会発表] 電気めっきによる皮膜生成に対する添加剤の効果;分子動力学法とモンテカルロ法の統合手法 (2007)
  • 著者名/発表者名: 西村修一, 金子豊, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • 学会等名: 第21回分子シミュレーション討論会
  • 発表場所: 金沢歌劇座、金沢市
  • 年月日: 2007-11-28
• [学会発表] めっきによるLSI 配線作成における添加剤の効果と埋め込み性-動的モンテカルロシミュレーション- (2007)
  • 著者名/発表者名: 金子豊, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • 学会等名: 第21回分子シミュレーション討論会
  • 発表場所: 金沢歌劇座、金沢市
  • 年月日: 2007-11-26
• [学会発表] ビアフィリングにおける添加剤の相互作用と埋め込み性-動的モンテカルロシミュレーション- (2007)
  • 著者名/発表者名: 金子豊, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • 学会等名: 表面技術協会第116回講演大会
  • 発表場所: 長崎大学
  • 年月日: 2007-09-19