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1.超高密度記録用ナノ周期積層膜および極薄DLC(Diamond like Carbon)膜:前年度までの結果をもとにナノ周期積層膜の形成条件を適正化し、周期2nm以下の物性の異なった2層の積層膜を形成した。さらにナノ加工特性、再生特性の予備検討として、ナノインデンテーション、ナノ摩耗試験を行った。1nm以下の極薄DLC膜を取り上げ原子オーダのナノ加工深さと物性値の変化を定量的に評価し、材料構成と膜形成法にフィードバックさせた。
2.超高密度記録のためのナノ加工特性:本年度は超微細ナノ加工の限界を追及した。導電性ダイヤモンドチップ、導電性カーボンナノチューブチップを用い電気・機械的な微細加工特性を検討した。
さらにナノ周期積層膜(BN/C)について、深さ方向に、積層単位の微細加工を実現した。また、1nm以下の極薄DLC膜について、電気的放電を複合した新しい加工法を実現した。
3.記録情報の再生法:今までの評価結果を基礎として摩擦力、弾性率、導電性の評価を主に取り上げた。これらの物性値は加工深さの関数として変化し、その現象を生かした新しい材料物性評価法として追求した。これらの結果を基に電流等の変化を組み合わせた新しい記録、再生法の可能性を検討し、超高密度AFMメモリーの可能性を明らかにした。
4.トライボ加工の応用展開:極表面のナノ力学特性評価技術および耐酸化性評価としてブラッシュアップし、評価技術として磁気ディスク表面、自動車用境界潤滑面の評価を実現した。
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