| 研究概要 |
平成20年度(最終年度)においては申請した研究計画に従い,ナノ構造磁性膜の特性向上と特性発現の機構について前年度に引き続き構造解析を行い,この結果をフィードバックすることによって第一次の積層ハイブリッド膜(マイクロ波電磁界収束材料)を用いた積層デバイスの試作を行った.
その結果,誘電体膜(ポリイミド膜およびSiO_2膜)と開発磁性膜とのハイブリッド効果により,マイクロ波電磁界収束がほぼ理論通りに起こることが検証された.さらに,MMICデバイスとして伝送線路や方向性結合器を依頼共同研究で試作した結果,磁性材料薄膜の新しい機能と有効性を実証することができた.
磁性薄膜材料の試作開発においても,CoFe膜に対するB添加効果や下地層の影響など,積層化やデバイス化に適した目的の高周波磁気特性(磁気共鳴周波数6-13GHz)を得,その独自の製膜方法の構築にほぼ成功した.
開発材料の基本物性については申請時の計画通り,国内・外との依頼共同研究によって目的の新材料の改善と新たな応用について多くの知見と指針を得ることができた.
以上の成果は,当初の研究目的をほぼ達成したと考えられ,逐次国際会議報告や論文発表を行う予定である.さらに当該磁性薄膜材料にはTHz帯応用への可能性があり,次期科研費(基盤研究(B))やその他の公募資金援助に申請する予定である.
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