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2008 年度 実績報告書

光学近接効果を考慮した歩留まり最適レイアウト生成

研究課題

研究課題/領域番号 18560327
研究機関東京大学

研究代表者

池田 誠  東京大学, 大規模集積システム設計教育研究センター, 准教授 (00282682)

研究分担者 佐々木 昌浩  東京大学, 大規模集積システム設計教育研究センター, 助教 (50339701)
キーワードOPC / 網羅的セルレイアウト生成 / セルリーク電流最小化 / セル歩留まり / 焦点深度 / 露光時間 / セルレイアウト自動合成
研究概要

本年度は研究計画に沿って、以下の観点から研究を進めた:1.セルレイアウトの自動合成手法の実装と評価2.生成されたライブラリを用いたVLSIの自動設計および設計VLSIの評価
セルレイアウトの自動合成に関しては、ばらつきが大きく評価が明確化しやすいガラス基板上におけるセルの生成を実施し、設計フローを構築することで、レイアウトを行い、試作結果の評価を行った。
また、ばらつきが遅延時間に与える影響に関して、ロジックテスターなどを用いることで評価を行い、遅延変動の影響に関する評価を実施した。
また、論理セルにおけるリーク電流に関して、OPCがリーク電流に与える影響に関して、セルレイアウトの網羅的な生成により得られるOPCの描画パタンから各レイアウトにおけるリーク電流を求めることで、リーク電流を考慮することで低減が可能であることを示し、この指針に従ったセルレイアウト生成がリーク低減に効果的であることを示した。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2009 2008

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] A Temperature Sensor With an Inaccuracy of -1/+0.8℃ Using 90-nm 1-V CMOS for Online Thermal Monitoring of VLSI Circuits2008

    • 著者名/発表者名
      M. Sasaki M. Ikeda and K. Aasada
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Semiconductor Manufact uring 21

      ページ: 201,208

    • 査読あり
  • [学会発表] Variation Tolerant Transceiver Design for System -on-Glass2009

    • 著者名/発表者名
      J. Kim J. Kim, K. Ikai, T. Nakura, M. Ikeda, K. Asada
    • 学会等名
      IEEE 34th European Solid-State Circuits Conference (ESSCIRC) Fringe
    • 発表場所
      イギリス・エジンバラ
    • 年月日
      2009-09-15
  • [学会発表] Circuit Design using Stripe2009

    • 著者名/発表者名
      K. Ikai, J. Kim, M. Ikeda, and K. Asada
    • 学会等名
      IEEE Asia and South Pacific Design Automati on Conference
    • 発表場所
      横浜市
    • 年月日
      2009-01-20
  • [学会発表] Delay Variation Measurements on DCVSL Using Logic Tester2008

    • 著者名/発表者名
      M. Ikeda
    • 学会等名
      University of Tokyo-UC Santa Barbara Joi nt Workshop
    • 発表場所
      米国・カリフォルニア州・サンタバーバラ市
    • 年月日
      2008-09-08

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公開日: 2010-06-11   更新日: 2016-04-21  

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