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2007 年度 研究成果報告書概要

微量公害物質検出用室温動作・高エネルギーX線検出素子の研究

研究課題

研究課題/領域番号 18560356
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関大阪電気通信大学

研究代表者

松浦 秀治  大阪電気通信大学, 工学部, 教授 (60278588)

研究分担者 谷口 一雄  大阪電気通信大学, 工学部, 教授 (50076832)
須崎 渉  大阪電気通信大学, 工学部, 教授 (00268294)
研究期間 (年度) 2006 – 2007
キーワードX線検出素子 / 蛍光X線 / Silicon Drift Detector / 半絶縁性半導体 / 4H-SiC / 耐放射線性
研究概要

1.高エネルギーX線検出感度向上に向けた高抵抗率Si半導体を用いたX線検出素子の開発研究
Cdからの蛍光X線のような高エネルギーX線を検出するためには、Si基板膜厚を厚くする必要がある。しかし、Si基板全体を空乏層化するためには、5kΩcm以上の高抵抗率Si基板が要求される。 5kΩcmのSi基板を用いて、これまでのSDD(silicon drift detector)を作製したところ、主要部分のpin構造以外の部分で、多量の漏れ電流が流れることが分かった。そこで、この問題点を解決できる素子構造を提案し(特許出願済み)、試作した素子の基本的な動作を確認した。
以上のように、本研究の目的である、漏れ電流を抑えながら、高エネルギーX線を検出できるSi検出素子開発の足がかりを見つけられた。
2.半絶縁性半導体を用いたX線検出素子の研究
半導体中の深い欠陥はX線分解能の低下を招くため、半絶縁性半導体中の電気的欠陥を評価できる方法を開発した。具体的には、半絶縁性半導体で作製されたダイオードには、過渡電流が長時間流れる。この過渡電流は、逆方向電圧を印加すると半絶縁性半導体中のトラップに捕獲されていた電荷が放出されるために流れる。このことを利用して、DCTS(Discharge Current Transient spectroscopy)法を開発し、高純度半絶縁性4H-SiC及び半絶縁性HgI_2に適用した。
今後、X線検出特性とトラップの種類を詳細に調べることにより、X線検出器に適した半絶縁性半導体の開発につながることが分かった。
3.半導体の耐放射線性の研究
これらの素子は放射線環境下での使用が予想されるため、Si、4H-SiC、6H-SiCの耐放射線性を調べた。X線検出素子は、半絶縁性半導体をi層としたpin構造で構成される。このため、p層及びn層の耐放射線性も重要となる。今回は、p型4H-SiCを中心に電子線照射による劣化を詳細に調べた。

  • 研究成果

    (38件)

すべて 2008 2007 2006 その他

すべて 雑誌論文 (12件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (23件) 備考 (1件) 産業財産権 (2件)

  • [雑誌論文] Characterization of deep centers in semi-insulating SiC and HgI_2:Application of discharge current transient spectroscopy2008

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, M.Takahashi, S.Nagata, and K.Taniguchi
    • 雑誌名

      Journal of Materials Science:Materials in Electronics (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Mechanisms of Reduction in Hole Concentration in Al-Implanted p-type 6H-SiC by 1 MeV Electron Irradiation2008

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, K.Izawa, N.Minohara, and T.Ohshima
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physice (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Characterization of Intrinsic Defects in High-Purity High-Resistivity p-Type 6H-SiC2008

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, H.Yanase, and M.Takahashi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physice (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Mechanisms of unexpected reduction in hole concentration in Al-doped 4H-SiC by 200 keV electron irradiation2008

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, N.Minohara, and T.Ohshima
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physice (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Characterization of Traps in Semi-Insulating 4H-SiC by Discharge Current Transient Spectroscopy2008

    • 著者名/発表者名
      M.Takahashi and H.Matsuura
    • 雑誌名

      Materials Science Forum (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Mechanisms of Decrease in Hole Concentration in Al-doped 4H-SiC by Irradiation of 200 keV Electrons2007

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, N.Minohara, Y.Inagawa, M.Takahashi, T.Ohshima, and H.Itoh
    • 雑誌名

      Materials Science Forum 556-557

      ページ: 379-382

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Mechanisms of Decrease in Hole Concentration in Al-doped 4H-SiC by Irradiation of 200 keV Electrons2007

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 雑誌名

      Materials Science Forum. 556-557

      ページ: 379-382

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Characterization of deep centers in semi-insulating SiC and HigI_2 : Application of discharge current transientr spectroscopy

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 雑誌名

      Journal of Materials Science : Materials in Electronics (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Mechanisms of Reduction in Hole Concentration in Al-Implanted p-type 6H-SiC by 1 MeV Electron irradiation

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Characterization of Intrinsic Defects in High-Purity High-Resistivity p-Type 6H-SiC

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Mechanisms of unexpected reduction in hole concentration in Al-doped 4H-SiC by 200 keV electron irradiation

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Characterization of Traps in Semi-Insulating 4H-SiC by Discharge Current Transient Spectroscopy

    • 著者名/発表者名
      M. Takahashi and H. Matsuura
    • 雑誌名

      Materials Science Forum (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [学会発表] 放電電流過渡分光法による高純度半絶縁性4H-SiC中の欠陥評価2007

    • 著者名/発表者名
      高橋 美雪、松浦 秀治
    • 学会等名
      SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会第16回講演会
    • 発表場所
      愛知県女性総合センター
    • 年月日
      2007-11-29
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] 200keV電子線照射におけるAl-doped 4H-SiCエビ膜の耐放射線性2007

    • 著者名/発表者名
      蓑原 伸正、稲川 祐介、高橋 美雪、松浦 秀治、大島 武、伊藤 久義
    • 学会等名
      SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会第16回講演会
    • 発表場所
      愛知県女性総合センター
    • 年月日
      2007-11-29
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Characterization of Traps in Semi-Insulating 4H-SiC by Discharge Current Transient Spectroscopy2007

    • 著者名/発表者名
      M.Takahashi, H.Matsuura
    • 学会等名
      International Conference on SiC and Related Materials 2007
    • 発表場所
      Otsu,Shiga,Japan
    • 年月日
      2007-10-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Possibility of High-Purity Semi-Insulating 4H-SiC Being Used as Portable X-Ray Detector Operating at Room Temperature2007

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura and M.Takahashi
    • 学会等名
      International Conference on SiC and Related Materials 2007
    • 発表場所
      Otsu,Shiga,Japan
    • 年月日
      2007-10-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Characterization of Traps in Semi-Insulating 4H-SiC by Discharge Current Transient Spectroscopy2007

    • 著者名/発表者名
      M. Takahashi, H. Matsuura
    • 学会等名
      International Conference on SiC and Related Materials 2007
    • 発表場所
      Otsu, Shiga, Japan
    • 年月日
      2007-10-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [学会発表] Possibility of High-Purity Semi-Insulating 4H-SiC Being Used as Portable X-Ray Detector Operating at Room Temperature2007

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 学会等名
      International Conference on SiC and Related Materials 2007
    • 発表場所
      Otsu, Shiga, Japan
    • 年月日
      2007-10-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [学会発表] Hall測定によるワイドギャップ半導体中の不純物の評価2007

    • 著者名/発表者名
      松浦 秀治
    • 学会等名
      第12回結晶工学セミナー(結晶工学スクール応用編)「電気・光学素子技術の基礎と応用」-ワイドバンドギャップ半導体編-
    • 発表場所
      学習院創立百周年記念会館
    • 年月日
      2007-10-04
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] 高純度半絶縁性4H-SiCを用いた室温動作可能なx線検出素子の可能性2007

    • 著者名/発表者名
      高橋 美雪、前田 健寿、山本 和代、松浦 秀治
    • 学会等名
      第68回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      北海道工業大学
    • 年月日
      2007-09-06
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] 200keV電子線照射実験からのAl-doped 4H-SiCエビ膜中の深いアクセプタの起源の考察2007

    • 著者名/発表者名
      蓑原 伸正, 稲川 祐介, 高橋 美雪, 松浦 秀治, 大島 武, 伊藤 久義
    • 学会等名
      第68回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      北海道工業大学
    • 年月日
      2007-09-05
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] 1MeV電子線照射によるAl-doped 6H-SiCの正孔密度とアクセプタ密度の変化2007

    • 著者名/発表者名
      井澤 圭亮, 蓑原 伸正, 外館 憲、松浦 秀治, 大島 武, 伊藤 久義
    • 学会等名
      第68回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      北海道工業大学
    • 年月日
      2007-09-05
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Characterization of deep centers in semi-insulating SiC and HgI_2:application of discharge current transient spectroscopy2007

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, M.Takahashi, S.Nagata, and K.Taniguchi
    • 学会等名
      14th Semiconducting and Insulating Materials Conference(SIMC XIV 2007)
    • 発表場所
      Feyatteville,Arkansas,USA
    • 年月日
      2007-05-19
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Characterization of deep centers in semi-insulating SiC and HgI_2 : application of discharge current transient spectroscopy2007

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 学会等名
      14th Semiconducting and Insulating Materials Conference
    • 発表場所
      Feyatteville, Arkansas, USA
    • 年月日
      2007-05-19
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [学会発表] 簡易型SDD素子の開発に向けて2007

    • 著者名/発表者名
      松浦 秀治
    • 学会等名
      大阪電気通信大学エレクトロ基礎研究所ワークショップ
    • 発表場所
      大阪電気通信大学
    • 年月日
      2007-03-23
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] p型4H-SiCの耐放射線性2006

    • 著者名/発表者名
      松浦 秀治、蓑原 伸正、高橋 美雪、大島 武、伊藤 久義
    • 学会等名
      SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会第15回講演会
    • 発表場所
      高崎シティーギャラリー
    • 年月日
      2006-11-09
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Si Substrate Suitable for Radiation-Resistant Space Solar Cells2006

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, S.Kawasaki, T.Ohshima, and H.Itoh
    • 学会等名
      7th International Workshop on Radiation Effects on Semi conductor Devices for Space Application
    • 発表場所
      Takasaki City Gallery,Takasaki,Japan
    • 年月日
      2006-10-17
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Decrease in Hole Concentration in Al-doped 4H-SiC by Irradiation of 200 keV electrons2006

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, N.Minohara, M.Takahashi, T.Ohshima, and H.Itoh
    • 学会等名
      7th International Workshop on Radiation Effects on Semi conductor Devices for Space Application
    • 発表場所
      Takasaki City Gallery,Takasaki,Japan
    • 年月日
      2006-10-17
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Si Substrate Suitable for Radiation-Resistant Space Solar Cells2006

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 学会等名
      7th International Workshop on Radiation Effects on Semiconductor Devices for Space Application
    • 発表場所
      Takasaki City Gallery, Takasaki, Japan
    • 年月日
      2006-10-17
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [学会発表] Decrease in Hole Concentration in Al-doped 4H-SiC by Irradiation of 200 keV electrons2006

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 学会等名
      7th International Workshop on Radiation Effects on Semiconductor Devices for Space Application
    • 発表場所
      Takasaki City Gallery, Takasaki, Japan
    • 年月日
      2006-10-17
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [学会発表] Decrease in Hole Concentration in Al-doped 4H-SiC by Irradiation of 200 keV Electrons2006

    • 著者名/発表者名
      N.Minohara, Y.Inagawa, M.Takahashi, H.Matsuura, T.Ohshima, and H.Itoh
    • 学会等名
      2nd International Student Conference at Ibaraki University
    • 発表場所
      Ibaraki University,Ibaraki,Japan
    • 年月日
      2006-10-05
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Decrease in Hole Concentration in Al-doped 4H-SiC by Irradiation of 200 keV Electrons2006

    • 著者名/発表者名
      N. Minohara, H. Matsuura
    • 学会等名
      2nd International Student Conference at Ibaraki University
    • 発表場所
      Ibaraki University, Ibaraki
    • 年月日
      2006-10-05
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [学会発表] Mechanisms of Decrease in Hole Concentration in Al-doped 4H-SiC by Irradiation of 200 keV Electrons2006

    • 著者名/発表者名
      H.Matsuura, N.Minohara, Y.Inagawa, M.Takahashi, T.Ohshima, and H.Itoh
    • 学会等名
      6th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials
    • 発表場所
      Newcastle upon Tyne,UK
    • 年月日
      2006-09-05
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Mechanisms of Decrease in Hole Concentration in Al-doped 4H-SiC by Irradiation of 200 keV Electrons2006

    • 著者名/発表者名
      H. Matsuura
    • 学会等名
      6th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials
    • 発表場所
      Newcastle upon Tyne, UK
    • 年月日
      2006-09-05
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [学会発表] Al-doped 4H-SiCエビ膜中の正孔密度の200keV電子線照射量依存性2006

    • 著者名/発表者名
      蓑原 伸正, 稲川 祐介, 高橋 美雪, 松浦 秀治, 大島 武, 伊藤 久義
    • 学会等名
      第67回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      立命館大学草津キャンパス
    • 年月日
      2006-08-30
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [備考] 「研究成果報告書概要(和文)」より

    • URL

      http://www.osakac.ac.jp/labs/matsuura/

  • [産業財産権] 放射線検出器2007

    • 発明者名
      松浦 秀治, 谷口 一雄, 宇高 忠
    • 権利者名
      松浦 秀治, 谷口 一雄, 宇高 忠
    • 産業財産権番号
      特許権、特願2007-098037
    • 出願年月日
      2007-04-04
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [産業財産権] 放射線検出器2006

    • 発明者名
      松浦 秀治, 谷口 一雄, 宇高 忠
    • 権利者名
      松浦 秀治, 谷口 一雄, 宇高 忠
    • 産業財産権番号
      特許権、特願2006-336727
    • 出願年月日
      2006-12-14
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より

URL: 

公開日: 2010-02-04  

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