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2008 年度 研究成果報告書

SOQ基板を何にどう使うか?

研究課題

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研究課題/領域番号 18560679
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 構造・機能材料
研究機関東洋大学

研究代表者

花尻 達郎  東洋大学, 工学部, 教授 (30266994)

研究分担者 鳥谷部 達  東洋大学, 工学部, 教授 (20266993)
柏木 邦宏  東洋大学, 工学部, 教授 (30058094)
森川 滝太郎  東洋大学, 工学部, 教授 (80191013)
研究期間 (年度) 2006 – 2008
キーワード新機能材料 / MOSFET / SOI / SOQ
研究概要

SOQ 基板(silicon on quartz)の有用性ついて、基板の基礎物性評価から、デバイスの試作に至るまで様々な視点からの検証を試みた。SOQ MOSFET試作の準備段階として、まずSOQ 基板の代替としてSOI基板を用いて、基板におけるナノオーダー級超薄膜の基礎物性評価方法を確立した。SOI/BOX(Buried Oxide、埋込み酸化膜)界面近傍において高密度のキャリア捕獲中心の定量的に評価することに初めて成功した。さらにSOQ基板の応用分野としてエレクトロニクスに留まらずμ-TAS(micro- total-analysis system)のプラットフォームとしての有用性について提案した。

  • 研究成果

    (28件)

すべて 2009 2008 2007 2006 その他

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (12件) 備考 (13件)

  • [雑誌論文] "Characterization of distribution of trap states in silicon-on-insulator layers by front-gate characteristics in n-channel SOI MOSFETs2008

    • 著者名/発表者名
      K.KAJIWARA, Y.NAKAJIMA, T. HANAJIRI, T.TOYABE, and T.SUGANO
    • 雑誌名

      IEEE trans. Electron Devices 55

      ページ: 1702-1707

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Three dimensional image construction and spectrum extraction from two dimensional elemental mapping in Auger electron spectroscopy," Journal of Vacuum Science & Technology A2008

    • 著者名/発表者名
      N. URUSHIHARA, S. IIDA, N. SANADA, M. SUZUKI, D.F. PAUL, S. BRYAN, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI, K. KAKUSHIMA, P. AHMET, K. TSUTSUI, and H. IWAI
    • 雑誌名

      Vacuum, Surfaces, and Films 26

      ページ: 668-672

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Drive current enhancement in silicon on quartz MOSFETs2008

    • 著者名/発表者名
      Y. NAKAJIMA, K. SASAKI, T. HANAJIRI, T. TOYABE, and T. SUGANO
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Lett., 29

      ページ: 944-945

    • 査読あり
  • [学会発表] Improvement of performance of Drain-Source-On-Insulator MOSFETs by using heavily doped-Si region between local BOX regions2009

    • 著者名/発表者名
      T. YAMADA, Y.MIYAZAWA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI, T. TOYABE, and T. SUGANO
    • 学会等名
      Proc. of 10th International Conference on Ultimate Integration of Silicon
    • 年月日
      20090000
  • [学会発表] Suppression of DIBL in deca-nano SOI MOSFETs by controlling permittivity and thickness of BOX layers2009

    • 著者名/発表者名
      S. ABE, Y. MIYAZAWA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI, T. TOYABE, and T. SUGANO
    • 学会等名
      Proc. of 10th International Conference on Ultimate Integration of Silicon
    • 年月日
      20090000
  • [学会発表] Discussion of origins of high-density trap states in SIMOX wafers2009

    • 著者名/発表者名
      Y. NAKAJIMA, T. TODA, T. HANAJIRI, T. TOYABE, and T. SUGANO
    • 学会等名
      Proc. of 10th International Conference on Ultimate Integration of Silicon
    • 年月日
      20090000
  • [学会発表] ゲート酸化膜のトラップがSOIMOSFETトンネル電流に与える影響の評価2009

    • 著者名/発表者名
      戸田貴大, 中島義賢, 花尻達郎, 鳥谷部達, 菅野卓雄
    • 学会等名
      第56回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      筑波大学
    • 年月日
      2009-03-30
  • [学会発表] 局所BOX間高不純物ドーピングによるDSOI MOSFETの特性改善2008

    • 著者名/発表者名
      山田辰哉、宮澤吉康、中島義賢、花尻達郎、鳥谷部達、菅野卓雄
    • 学会等名
      第69回応用物理学会学術講演会予稿集
    • 発表場所
      中部大学
    • 年月日
      2008-09-03
  • [学会発表] BOX比誘電率およびBOX膜厚制御によるDIBLの抑制効果2008

    • 著者名/発表者名
      阿部俊平、宮澤吉康、中島義賢、花尻達郎、鳥谷部達、菅野卓雄
    • 学会等名
      第69回応用物理学会学術講演会予稿集
    • 発表場所
      中部大学
    • 年月日
      2008-09-03
  • [学会発表] 選択的BOXを有するSOI MOSFETの有用性2008

    • 著者名/発表者名
      前川貴信、山田辰哉、宮澤吉康、中島義賢、花尻達郎、鳥谷部達、菅野卓雄
    • 学会等名
      第54回応用物理学関係連合講演会講演予稿集
    • 発表場所
      日本大学理工学部
    • 年月日
      2008-03-29
  • [学会発表] 3D Image Acquiring and Spectrum Extraction from 2D Elemental Mapping in Auger Electron Spectroscopy2007

    • 著者名/発表者名
      N.URUSHIHARA, S.IIDA, N.SANADA, D.F.PAUL, S.BRYAN, M.SUZUKI, Y.NAKAJIMA and T.HANAJIRI
    • 学会等名
      AVS 54th Int. Symposium Paper AS-TuA10 (October 16 2007) Washington State Convention Center
    • 発表場所
      Seattle, WA, USA
    • 年月日
      2007-10-16
  • [学会発表] SOI 基板における表面再結合速度の光学的測定による評価(2)2007

    • 著者名/発表者名
      宮澤吉康、中島義賢、花尻達郎、小室修二、鳥谷部達
    • 学会等名
      第54回応用物理学関係連合講演会講演予稿集
    • 発表場所
      青山学院大学
    • 年月日
      2007-03-28
  • [学会発表] Advantages of Depletion Type SOI MOSFETs", Abst. of symposium E (Nanodevices and Nanofabrication), 4th Int.2007

    • 著者名/発表者名
      K. MIYAZAWA, Y. MIYAZAWA, Y.NAKAJIMA, T.HANAJIRI and T.TOYABE
    • 学会等名
      Conf. on Materials for Advanced Technologies 2007
    • 発表場所
      Convention Center, Singapore
    • 年月日
      2007-03-03
  • [学会発表] "Qantitative Estimation of Surface Recombination Velocity of SOI wafers by PL Decay Method2007

    • 著者名/発表者名
      Y.MIYAZAWA, Y.NAKAJIMA,T.HANAJIRI, S.KOMURO and T.TOYABE
    • 学会等名
      Abst. of symposium E (Nanodevices and Nanofabrication), 4th Int. Conf
    • 発表場所
      Convention Center, Singapore
    • 年月日
      2007-03-03
  • [学会発表] 空乏型SOI MOSFET の有用性(2)2006

    • 著者名/発表者名
      宮沢健司、宮澤吉康、中島義賢、花尻達郎、鳥谷部達
    • 学会等名
      第67回応用物理学会学術講演会 講演予稿集
    • 発表場所
      立命館大学
    • 年月日
      2006-08-31
  • [備考] T. YAMADA, Y. MIYAZAWA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI, T.TOYABE and T. SUGANO, "Improvement of performance of DSOI MOSFETs by heavily doping between local BOX regions,"6th Int. Symp. On Bioscience and Nanotechnology p.49(November 7 2008) Tokyo.(審査なし)

  • [備考] S. ABE, Y. MIYAZAWA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI, T.TOYABE and T. SUGANO, "Suppression of DIBL in deca-nano SOI MOSFETs by controlling permittivity and thickness of BOX layers,"6th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.48 (November 7 2008) Tokyo. (審査なし)

  • [備考] T. TODA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI and T. SUGANO, "Clarification of origins of high-density trap states in SIMOX wafers,"6th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.47(November 7 2008) Tokyo. (審査なし)

  • [備考] T. HANAJIRI, Y. NAKAJIMA, T. TOYABE, A. INOUE, T. SUGANO and T. MAEKAWA,"Nanoelectronics and its application to Bio-Nano Devices,"6th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.6 (November 7 2008) Tokyo. (審査なし)

  • [備考] T. TODA, T. YAMASHITA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI and T.TOYABE, "Characterization of mobility and stress in strained MOSFETs",5th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.74(December 5 2007) Kawagoe. (審査なし)

  • [備考] T. YAMADA, Y .MIYAZAWA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI and T.TOYABE,"Development of a three-dimensional general-purpose device simulator for advanced electron devices",5th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.73(December 5 2007) Kawagoe.(審査なし)

  • [備考] Y. MIYAZAWA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI, S. KOMUROandT.TOYABE, "Non-destructive characterization of surface recombination velocity at SOI/BOX interfaces by PL decays",5th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.69(December 5 2007) Kawagoe(審査なし)

  • [備考] Y. NAKAJIMA,T. HANAJIRI and T. SUGANO, "Microscopic structure at SOI/BOX inteeface in SIMOX wafers",5th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.68 (December 5 2007) Kawagoe. (審査なし)

  • [備考] T. HANAJIRI, Y. NAKAJIMA, T. TOYABE, A.IOUE, T.SUGANO and T.MAEKAWA, "Nanoelectronics for Bio-Nano devices",5th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.12(December 5 2007) Kawagoe. (審査なし)

  • [備考] Y. MIYAZAWA, T. YAMADA, Y. NAKAJIMA, T.HANAJIRI, S.KOMURO and T.TOPYABE, "Estimation of Surface Recombination Velocity at silicon on insulator (SOI)/buried oxide (BOX) interface,"4th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p.94 (November 2006) Okinawa.(審査なし)

  • [備考] K. ODA, Y. NAKAJIMA, T. HANAJIRI and T.SUGANO, "Characterization of electric characteristics of SOI wafers,"4th Int. Symp. on Bioscience and Nanotechnology p. 92 (November 2006) Okinawa.(審査なし)

  • [備考] T. TOYABE, T. HANAJIRI and. NAKAJIMA, "Development of nano/micro electron devices", Brighton University-Toyo University COE Seminor, (September 2006) Brighton,UK.(招待)(審査なし)

  • [備考] T. TOYABE, T. HANAJIRI and. NAKAJIMA, "Development of nano/micro electron devices", Brighton University-Toyo University COE Seminor, (September 2006) Brighton,UK.(招待)(審査なし)

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公開日: 2010-06-10   更新日: 2016-04-21  

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