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2006 年度 実績報告書

ハイドロシリレーション反応を利用したメソポーラスシリカ表面の有機修飾

研究課題

研究課題/領域番号 18560743
研究種目

基盤研究(C)

研究機関帝京科学大学

研究代表者

釘田 強志  帝京科学大学, 理工学部, 助教授 (80225127)

研究分担者 灘波 征太郎  帝京科学大学, 理工学部, 教授 (80114883)
キーワード規則性シリカ多孔体 / MCM-41 / 有機修飾 / 固体酸 / ヒドロシリル化 / 触媒反応
研究概要

本研究は,より水熱安定性の高いSi-Cで結合した有機基でMCM-41表面を有機修飾することを目的に,表面にSi-H基を導入したHSi-MCM-41を合成し,これと末端オレフィンとのヒドロシリル化反応により,MCM-41表面に様々な有機基の導入を試みた。本手法は,表面シラノール基に対し1:1で有機基を導入することが出来るため,MCM-41表面をより高密度に有機修飾できる可能性もある。今回,HSi-MCM-41とスチレンとのヒドロシリル化反応を行い,フェニルアルキル基を導入し,硫酸処理してスルホ基が置換したHSO_3-Ar-C_2H_4-MCM-41の導入を行った。さらにHSO_3-Ar-C_2H_4-MCM-41のイオン交換容量,水熱安定性,およびエステル化反応に対する触媒活性を検討した。
まずIRでそれぞれ,2250cm^<-1>のSi-H基,2800〜3100cm^<-1>付近のC-Hおよび1400〜1500cm^<-1>のフェニル基,さらに1300cm^<-1>のS=0基に由来する吸収が観測され,HSi-,Ph-C2H4-ならびにHSO3-Ar-C2H4-MCM-41の合成を確認した。次にHSO_3-Ar-C_2H_4-MCM-41を,323Kの水で処理した後の酸性基残存率を測定した。その結果,シランカップリング法を経て導入した有機酸性基は,2hで既に約20%,12hでは40%以上遊離しているのに対し,本実験法で導入した有機基の遊離は,6hでも約15%であり,この値は24h後でも変わらなかった。このことは,当初予想していたとおり,ヒドロシリル化で導入した有機基はMCM-41表面とSi-C結合しているため,高い水熱安定性を有していること示唆する。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2006

すべて 雑誌論文 (4件)

  • [雑誌論文] Selective Synthesis of di-tert-butylperoxide catalyzed by Highly Active Microporous H-beta Zeolite2006

    • 著者名/発表者名
      S.Jana, M.Nakamura, T.Kugita, S.Namba
    • 雑誌名

      Appl. Catal. A : Gen 313

      ページ: 101

  • [雑誌論文] Introduction of Si-H Bond onto the surface of Mesoporous Molecular Sieves and Functionalization by Hydrosilylation Reaction2006

    • 著者名/発表者名
      T.Kugita, H.Higuchi
    • 雑誌名

      Chem. Lett. 35

      ページ: 906

  • [雑誌論文] Catalytic Activity of Zeolites for Synthesis Reaction of Methylenedianiline from Aniline and Formaldehyde2006

    • 著者名/発表者名
      T.Kugita, S.Hirose, S.Namba
    • 雑誌名

      Catalysis Today 111

      ページ: 275

  • [雑誌論文] Ion Pairing of Electrochemically Generated Fluorenyl Anions with Tetraalkylammonium Counter Cations, 74, 49-52 (2006).2006

    • 著者名/発表者名
      M Okano, T.Hino, T.Kugita
    • 雑誌名

      Electrochemistry 74

      ページ: 49

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公開日: 2008-05-08   更新日: 2016-04-21  

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