|
1.光圧縮原理の展開
原子にレーザー照射することにより、弱相互作用過程を増幅する、光圧縮原理について、従来、荷電カレント反応による、2ニュートリノ及び電子の放出過程が考えられてきた。に加え、中性カレント反応による、2ニュートリノ及び光子の放出過程も検討した。また、レーザーに対応する可視、赤外光領域に加え、マイクロ波領域の利用についても検討を行った。
2.レーザー照射標的の決定及びレーザーの準備
レーザー照射の標的原子を、ルビジウム及びバリウムに決定した。これを受けて、レーザーに対する要請を決め、波長可変半導体レーザーを購入した。耐震改修による実験室移転後、復帰し、レーザーの拡充及び再セットアップを行った。
3.レーザー照射標的生成の準備
83Krの希ガスを封入したガスセルに、陽子ビームを照射し、原子核反応により、電子捕獲崩壊核83Rbを生成するが、ガスセルのビーム透過窓の材質選定が重要である。この窓については次の4点が重要である。(1)1気圧のガスに対し、十分耐圧があること。(2)希ガスに対し非透過であること。(3)10MeV程度の陽子ビームが通過すること。(4)この陽子ビーム照射で劣化しないこと。以上の条件を満たす材質候補を選出する。当初20μm厚マイラーを候補にし、これに対して、実際に京都大学タンデム加速器において、陽子ビーム照射を行った。結果的に陽子ビームによる劣化が認められたため、実績があり、より信頼性の高い5μm厚Moフォイルを採用した。
|
