| 研究概要 |
平成18年度は,デバイス製作において基礎となる部分である,シリコーンゴムによる微小構造体の製作プロセスを開発した.その結果,モールディングを用いて,感光性厚膜レジストで製作した原型を転写し,1〜500μm程度の大きさを有する三次元的な構造体を製作するプロセスを開発することができた.さらに,製作したシリコーン微小構造体の表面上で細胞培養を行うための,洗浄工程,および滅菌行程についても開発を行った.その結果,製作したシリコーン微小構造体の剛性が高いため,70%エタノール水溶液を用いた超音波洗浄工程が適用可能であることが明らかとなった.また滅菌行程では12時間のUV照射が有効であることが明らかとなり,これらによって,作成したデバイスの洗浄・滅菌行程を確立することができた.
加えて,デバイス表面への細胞接着を制御するための,表面修飾技術について検討した.フッ素樹脂液をスピンコートすることでデバイス表面に成膜し,デバイス表面全体を低細胞接着性にした後に,酸素プラズマ中へ暴露することで,表面を改質し細胞接着性を向上させる手法を開発した.ステンシルマスクを用いて,酸素プラズマへ暴露させる部分を局所的に限定することで,所定の部分のみを選択的に高細胞接着性へと変化させることができた.
また,当初の研究計画を一部,前倒しして実施した.デバイスの駆動に用いるマイクロアクチュエーター製作の基礎研究を行った.今回試作したマイクロアクチュエーターは,弾性電極にアルミニウムを用い,シリコーンゴムの薄膜化プロセスとアクチュエーター動作の概念実証を行った.その結果,900Vの電圧印加で3%程度の伸びを発生させることが確認できた.しかしながら,当初の目標である,10〜20%の伸張量には達さず,また動作電圧も高いことから,弾性電極の材料とデバイスの構造について再検討が必要であることがわかった.
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