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界面を利用したブロック共重合体単分子膜ナノパターンの構築として、(1)メディエータ(自己集合助剤)を介在させた高秩序ナノパターン形成、(2)ミクロ相分離構造の光制御、の二つ課題の研究を進めている。
(1)メディエータ(自己集合助剤)を介在させた高秩序ナノパターン形成
これまで、水面にて溶媒のように振る舞う"液晶単分子膜メディエータ"の介在により、両親媒性ブロック共重合体、ポリスチレン-block-ポリ(4-ビニルピリジン)[PS-b-P4VP]の水面単分子膜のモルフォロジー制御でき、PSドットまたはP4VPドットが規則的に配列したナノドットアレイパターンが得られることを報告した。本年度は、この二つのパターンの応用展開を進めた。
PSナノドットアレイをPMMA薄膜上に転写し、四酸化ルテニウムにて染色た後、真空紫外光酸化処理を行った。その結果、染色されたPSドットがマスクとなりPMMA表面に高さ50nm程度、幅100nmほどのナノピラーを形成できることがわかり、PMMA表面のナノ表面加工が達成されることがわかった。また、P4VPナノドットアレイをテンプレートとした、金属クラスターパターンを達成し、パラジウム、金、白金のナノクラスターアレイが得られている。
(2)ミクロ相分離構造の光制御
ポリジメチルシロキサン鎖を持つアゾベンゼンブロック共重合体を合成し、水面展開した単分子膜を固体基板上に転写することで二次元ミクロ相分離構造のパターンを得た。基板上に転写したミクロ相分離構造のパターンに、高湿度下にて436nm直線可視光偏光照射をしたところ、偏光に対応した異方的なモルフォロジーが得られることがわかった。
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