| 研究概要 |
ナノ構造を設計するために必要な手法である厳密結合波解析(RCWA)法を用いた設計手法について検討した.RCWA法を用いた手法では,古典論的に厳密に電磁波の振る舞いを計算できる.しかしながら,実際に設計を行う際,ナノ構造の設計モデルのモデル誤差が最終的に電磁波に与える影響はわかっていない.そこで,あらたに計算用PCを導入しモデル誤差についての検討を行った.その結果,設計指針を得ることができた.検討した結果,現在のところ,入射角度86度においてナノ構造がない場合よりも50%透過率が向上することがわかった.さらに,静磁場的な検討も同時に行うことでナノ構造を有する金属面と電磁波の相互作用についても新たに静磁場解析ソフトを導入し検討している.
また,ナノ構造光学素子を搭載した超斜入射干渉計の基本システムの構築を行っている.現在のところ,基本的な実証実験を行うための準備を行った.まず,干渉画像を得るために,高空間分解能のCCDカメラシステムを導入した.これは,干渉計測を行うときの測定対象物として半導体デバイスを想定しているため空間分解能をあげる必要があるためである.さらに,画像処理用の画像処理ボードを導入した.また,干渉解析を行う際に必要となる位相シフトにはピエゾ素子を用いた手法を考案する.(ここで必要となるピエゾ素子はこれまでにある素子を用いるために新規に導入はしていない.)
また,現状の干渉計測法の動向から本課題に必要な計測性能を把握するために学会に参加した.具体的には,精密工学会(2006年秋期大会,講演会,シンポジウム),米国光工学会(Optics East)である.両学会とも,白色干渉計を用いた議論が行われており,特に,通常の表面形状計測だけでなく,薄膜計測にまで適用範囲を広げることが急務であるこどがわかった.本課題においても,光源に白色光を用いることで対応可能であるので次年度システムの検討を行う.
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