| 研究概要 |
本研究の目的は、次世代半導体製造用の電子線露光に特化した超精密ステージシステムの開発とその実用化である。この目的に対して、駆動周波数可変制御法に基づくスリップフリー駆動法を提案し、ステージの高精度化とともに高耐久化を達成した。また,可変忘却要素を用いた適応同定法により,経年変化や動特性変化に対して適応的に最適性能を保持する制御系を実現した。同時に、ステージを搭載した反力制御装置付き6自由度アクティブ除振システムを構築し、制御帯域のみを設計パラメータとする同定と制御の統合化設計法を提案し、その有効性を実験により検証した。
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