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近年、様々な生体材料に自己細胞および増殖・分化因子を組み合わせたティッシュエンジニアリングが開発され発展しつつある。さらには、人工多能性幹細胞(iPS細胞)を代表とする胚性幹細胞(ES細胞)にかわる多分化能を有する細胞の開発、研究が行われている。
本年は昨年に引き続きティッシュエンジニアリング材料に組み合わせるため、自己由来の細胞として大きな可能性を有すると考えるヒト智歯歯胚由来間葉系幹細胞についての検討を行った。
智歯歯胚は8歳から12歳までの矯正学的理由により抜去された埋伏智歯を使用した。
抜去したヒト智歯歯胚を酵素下にて細胞単位まで分離し、培養を行った。
幹細胞マーカーとされるSTRO-1陽性細胞に対し、磁石抗体を応用したDynabeads^[○!R]を用い、分離回収をおこなった。全細胞にしめる間葉系幹細胞の割合はおおよそ7%であった。また、それら磁石抗体を再分離し、さらに培養を継続、細胞の増殖を確認している。
以上より、歯根膜組織を再構築することを目的としティッシュエンジニアリングに用いる自己由来細胞のソースとしてヒト智歯由来の間葉系幹細胞が有用であることが示唆され、今後、スキャフォルドとの親和性等さらに検討を行うことが必要と考えられた。
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