研究課題
本研究で見出したフォトニック結晶ナノメンブレンからのコヒーレント真空紫外円偏光発生に関して、その発生する真空紫外光の高強度化が、実際の応用を考える上では重要な課題となる。これに対して本年度は、フォトニック結晶を作製する材料に新たな物質を導入することを試みた。具体的には、これまで用いていたγ-Al2O3メンブレンより高強度化が見込まれるSiO2を母材としたメンブレンを自作する技術を確立し、真空紫外光の発生を検証した。通常のSiO2薄膜はメンブレン化することによって圧縮応力が生じてしまい、シワシワになってしまうという問題が生じることが知られていた。この問題を解決するための方策として我々は、適切な温度でアニールを施すことが有効であることを見出し、この手法によってシワの生じないSiO2ナノメンブレンを作成する手法を確立した。さらに、そのメンブレンの形状観察を長期的に継続し、少なくとも半年以上にわたって、シワの無いメンブレン形状が保持されること確認した。さらに、その自作したSiO2ナノメンブレンに対して、フォトニック結晶構造を作製するためのナノプロセス手法の開発を進めた。その結果、実際にSiO2フォトニック結晶ナノメンブレンを作製できるプロセスレシピを開発することに成功した。これによって、SiO2というより汎用的な物質を用いて真空紫外コヒーレント光発生用の波長変換材料が作製できるようになるだけでなく、発生する真空紫外光強度の増大にもつながり、光源応用への可能性を高める結果であると言える。
令和2年度が最終年度であるため、記入しない。
すべて 2020
すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件、 オープンアクセス 3件) 学会発表 (5件) (うち国際学会 2件、 招待講演 1件) 産業財産権 (1件) (うち外国 1件)
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