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2018 年度 実績報告書

スパッタエピタキシーによる革新的エキシトンデバイスの実現と励起子輸送機構の解明

研究課題

研究課題/領域番号 18H01206
研究機関九州大学

研究代表者

板垣 奈穂  九州大学, システム情報科学研究院, 准教授 (60579100)

研究分担者 白谷 正治  九州大学, システム情報科学研究院, 教授 (90206293)
研究期間 (年度) 2018-04-01 – 2022-03-31
キーワードエキシトントランジスタ / ZION / 歪み量子井戸 / プラズマプロセス / ピエゾ電界
研究実績の概要

H30年度は,エキシトントランジスタの実現に向け,サファイア基板上へのZIONエピタキシャル成長,ならびに,ZnO単結晶テンプレートを用いたZION/ZnOひずみ量子井戸の作製を行い,ゲートへの光照射によるエキシトン流のスイッチングを試みた.成果は以下の2点に集約される.
1) サファイア基板直上へのZIONエピタキシャル成長の実現とフォトルミネッセンス観測:これまでに,単結晶ZnOをテンプレートとすることで世界初となる ZIONの単結晶成長を実現し,強い青色および緑色発光を観測している.今年度は汎用基板であるサファイア基板直上(格子不整合率19-21%)におけるZIONエピタキシャル成長を世界で初めて実現した.またこのとき,ZION膜の表面高さ分布の時間発展が特異な振る舞いを示すことを見出した.具体的には,膜成長に伴い,シャープな分布から一旦,ブロードな分布に以降した後,再度シャープな分布に以降し,最終的に原子レベルで平坦な表面が形成された.これは,膜成長が3次元成長から2次元成長に移行したことを示しており,この成長モードの遷移により,格子不整合基板においてもエピタキシャル成長が実現したものと考えられる.
また,上記ZION膜にレーザ照射を行ったところ,強い青色―緑色発光を観測するに至った.
2) ゲートへの光照射による室温スイッチング:単結晶ZnOをテンプレートとしたZION/ZnO歪み量子井戸を形成し,ゲートへの光信号入力によるエキシトン流のスイッチングに成功した.このとき,量子井戸にピエゾ電界を誘起させると,On/Off比が2桁上昇することがわかった.これは,ピエゾ電界によりエキシトンの再結合が抑制され,再結合が起きる前に,信号光によるエキシトンの解離が生じたためと考えられる.

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

本研究では,電子-正孔がクーロン相互作用で結合した準粒子「エキシトン(励起子)」をキャリアとするトランジスタを,新材料(ZnO)x(InN)1-x(以下ZION)により実現するとともに,エキシトンの輸送機構を解明することを目的としている.
現在までに,高精度フラック制御スパッタにより,ZnOテンプレート上ZION歪み量子井戸を実現するとともに,汎用基板であるサファイア基板直上におけるZIONエピタキシャル成長に世界で初めて実現し,強い青色―緑色発光を観測している.また,障壁層材料としてあらたに(ZnO)x(AlN)1-x(以下ZAON)を開発した.さらに 上述の歪み量子井戸をチャネルとしたエキシトントランジスタを試作し,ゲートへの光照射によるスイッチングに成功しており,研究は順調に進展している.2019年度以降は上述のZION歪み量子井戸を用いて高温・長寿命エキシトンを実現し.これによりエキシトンの電界による輸送を解明するとともに,ZION量子井戸チャネルからなるデバイス作製を行い,ゲートへの電圧印加によるスイッチングの実現を目指す.また,新材料ZAONを障壁層としたピエゾ量子井戸の形成も試み,エキシトン輸送効率を最大化する量子井戸構造を獲得する.

今後の研究の推進方策

今後はZION歪み量子井戸を用いて高温・長寿命エキシトンを実現する.これによりエキシトンの電界による輸送を解明するとともに,ZION量子井戸チャネルからなるデバイス作製を行い,ゲートへの電圧印加によるスイッチングの実現を目指す.さらに代表者発見の新結晶成長モード「逆SK モード」を利用して,サファイアやSi等の汎用性基板上へのデバイス形成を行う.
以下に具体的な研究計画および目標を記す.
1. 新材料ZAONを障壁層に用いた歪み量子井戸の形成
これまでに単結晶ZnOテンプレート上にZION膜をコヒーレント成長させることで,歪み量子井戸の形成に成功している.今年度は2018年度に新たに開発した新材料(ZnO)x(AlN)1-x(以下ZAON)を障壁層としたピエゾ量子井戸の形成も試み,エキシトン輸送効率を最大化する量子井戸構造を獲得する.さらにこれらをチャネルとしたデバイス形成を行い,ゲートへの電圧印加によるエキシトン流スイッチングの実現を目指す.
2. エキシトン輸送機構の解明:項目1で得られるZION歪み量子井戸は,高温・長寿命エキシトンの実現を可能にし,従来ブラックボックスであったエキシトン輸送メカニズムを解明する格好の場となる.本項目では,上記エキシトントランジスタにおいて,ソース領域(S) にレーザーをスポット照射することでエキシトンを生成する.次に近接場光学顕微鏡とストリークカメラを用いて,エキシトンの再結合光を時間・空間ともに極めて高い分解能で検出する.これによりエキシトン輸送過程の詳細評価を行う.

  • 研究成果

    (26件)

すべて 2019 2018 その他

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (17件) (うち招待講演 5件) 備考 (3件)

  • [雑誌論文] Effects of nitrogen impurity on zno crystal growth on Si substrates2019

    • 著者名/発表者名
      Muraoka Soichiro、Jiahao Lyu、Yamashita Daisuke、Kamataki Kunihiro、Koga Kazunori、Shiratani Masaharu、Itagaki Naho
    • 雑誌名

      MRS Advances

      巻: in press ページ: 1~7

    • DOI

      10.1557/adv.2019.28

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Sputter Epitaxy of (ZnO)x(InN)1-x films on Lattice-mismatched Sapphire Substrate2019

    • 著者名/発表者名
      Miyahara Nanoka、Urakawa Seichi、Yamashita Daisuke、Kamataki Kunihiro、Koga Kazunori、Shiratani Masaharu、Itagaki Naho
    • 雑誌名

      MRS Advances

      巻: in press ページ: 1~6

    • DOI

      10.1557/adv.2019.17

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Room-temperature fabrication of amorphous In2O3:Sn films with high electron mobility via nitrogen mediated amorphization2019

    • 著者名/発表者名
      K. Imoto, H. Wang, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki
    • 雑誌名

      J. Phys.: Conf. Ser.

      巻: in press ページ: in press

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effects of Sputtering Pressure on (ZnO)<sub>x</sub>(InN)<sub>1-x</sub> Crystal Film Growth at 450°C2018

    • 著者名/発表者名
      Itagaki Naho、Takeuchi Kazuto、Miyahara Nanoka、Imoto Kouki、Seo Hyun Woong、Koga Kazunori、Shiratani Masaharu
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 941 ページ: 2093~2098

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/MSF.941.2093

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photoluminescence of (ZnO)<sub>0.82</sub>(InN)<sub>0.18</sub> Films: Incident Light Angle Dependence2018

    • 著者名/発表者名
      Miyahara Nanoka、Iwasaki Kazuya、Yamashita Daisuke、Nakamura Daisuke、Seo Hyun Woong、Koga Kazunori、Shiratani Masaharu、Itagaki Naho
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 941 ページ: 2099~2103

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/MSF.941.2099

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Sputter deposition of low resistive amorphous In2O3:Sn films using nitrogen-mediated amorphization method: Effects of target-substrate distance2018

    • 著者名/発表者名
      K. Imoto, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani and N, Itagaki
    • 雑誌名

      Proceedings of 40th International Symposium on Dry Process, P-62

      巻: 0 ページ: P-62

    • 査読あり
  • [学会発表] スパッタエピタキシーによるサファイア基板上(ZnO)x(InN)1-x薄膜の2段階成長2019

    • 著者名/発表者名
      宮原奈乃華,浦川聖市,山下大輔, 鎌滝晋礼,古閑 一憲,白谷 正治,板垣 奈穂
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会
    • 招待講演
  • [学会発表] スパッタエピタキシーによるサファイア基板直上へのIn-rich (ZnO)x(InN)1-x膜の作製2018

    • 著者名/発表者名
      宮原 奈乃華,山下 大輔,鎌滝 晋礼,中村大輔,古閑 一憲,白谷 正治,板垣 奈穂
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会
  • [学会発表] Fabrication of high-mobility amorphous In2O3:Sn films via nitrogen-mediated amorphization: effects of target-substrate distance2018

    • 著者名/発表者名
      K. Imoto, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani and N. Itagaki
    • 学会等名
      28th Annual Meeting of Material Research Society Japan
  • [学会発表] Sputter Epitaxy of ZnO Based Compounds for Excitonic Deviceser Epitaxy of Compound Semiconductors via Inverse Stranski-Krastanov Mode: A Method of Single-Crystalline Film Growth2018

    • 著者名/発表者名
      N. Itagaki, K. Imoto, N. Miyahara, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga and M. Shiratani
    • 学会等名
      28th Annual Meeting of Material Research Society Japan
    • 招待講演
  • [学会発表] Sputter Epitaxy of Compound Semiconductors via Inverse Stranski-Krastanov Mode: A Method of Single-Crystalline Film Growth beyond Lattice Matching Condition2018

    • 著者名/発表者名
      N. Itagaki, K. Imoto, N. Miyahara, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga and M. Shiratani
    • 学会等名
      28th Annual Meeting of Material Research Society Japan
    • 招待講演
  • [学会発表] Sputter epitaxy of high quality (ZnO)x(InN)1-x: a new semiconducting material for excitonic devices2018

    • 著者名/発表者名
      N. Itagaki
    • 学会等名
      2nd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics
    • 招待講演
  • [学会発表] Sputter epitaxy of single crystalline ZnO on 18%-lattice-mismatched sapphire using multi buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization2018

    • 著者名/発表者名
      Jiahao Lyu, Daisuke Yamashita, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki
    • 学会等名
      2nd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics
  • [学会発表] マグネトロンスパッタによる擬2元系混晶(ZnO)x (InN,AlN)1-xのヘテロエピタキシー2018

    • 著者名/発表者名
      浦川 聖市,宮原 奈乃華,山下 大輔,鎌滝 晋礼,古閑 一憲,白谷正治,板垣奈穂
    • 学会等名
      プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部 支部大会
  • [学会発表] Catalyst-free growth of (ZnO)0.79(InN)0.21 nanorods by RF magnetron sputtering2018

    • 著者名/発表者名
      Nanoka Miyahara, Daisuke Yamashita, Daisuke Nakamura, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki
    • 学会等名
      Materials Research Society 2018 Meeting & Exhibit
  • [学会発表] Effects of nitrogen impurity on sputtering growth of ZnO films on Si(111) substrates2018

    • 著者名/発表者名
      Soichiro Muraoka, Jiahao Lyu, Daisuke Yamashita, Kunihiro Kamataki1, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki
    • 学会等名
      Materials Research Society 2018 Meeting & Exhibit
  • [学会発表] Ar/N2スパッタリングによる低抵抗アモルファスITO膜の作製:ターゲット-基板間距離の影響2018

    • 著者名/発表者名
      井本幸希, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂
    • 学会等名
      第35回 プラズマ・核融合学会 年会
  • [学会発表] フラックス制御スパッタによるIn-rich (ZnO)x(InN)1-x膜のヘテロエピタキシー2018

    • 著者名/発表者名
      宮原 奈乃華, 浦川 聖市, 山下 大輔, 鎌滝 晋礼,中村大輔, 古閑 一憲,白谷 正治,板垣 奈穂
    • 学会等名
      第35回 プラズマ・核融合学会 年会
  • [学会発表] RFマグネトロンスパッタ法を用いたSi(111)基板上でのZnO結晶成長における窒素不純物の効果2018

    • 著者名/発表者名
      村岡宗一郎、呂佳豪、山下大輔、鎌滝晋礼、古閑一憲、白谷正治、板垣奈穂
    • 学会等名
      第35回 プラズマ・核融合学会 年会
  • [学会発表] 窒素添加結晶化法による格子不整合基板上へZnOエピタキシャル成長―窒素酸素共添加多段バッファー層の効果―2018

    • 著者名/発表者名
      呂 佳豪, 鎌滝 晋礼, 山下 大輔, 古閑 一憲, 白谷 正治, 板垣 奈穂
    • 学会等名
      第35回 プラズマ・核融合学会 年会
  • [学会発表] Sputter deposition of low resistive amorphous In2O3:Sn films using nitrogen-mediated amorphization method: Effects of target-substrate distance2018

    • 著者名/発表者名
      K. Imoto, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani and N, Itagaki
    • 学会等名
      40th International Symposium on Dry Process
  • [学会発表] Inverse Stranski-Krastanov Growth of Single Crystalline Films: A New Mode of Heteroepitaxy for Large Lattice Mismatched System2018

    • 著者名/発表者名
      Naho Itagaki, M. Shiratani
    • 学会等名
      Int'l Conf. Processing Manufacturing Adv. Matter. (THERMEC2018)
    • 招待講演
  • [学会発表] Room Temperature Photoluminescence from (ZnO)0.79(InN)0.21 films fabricated by RF magnetron sputtering2018

    • 著者名/発表者名
      Nanoka Miyahara, Liu Shi, Kazuya Iwasaki, Hyunwoong Seo, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, and Naho Itagaki
    • 学会等名
      Int'l Conf. Processing Manufacturing Adv. Matter. (THERMEC2018)
  • [備考] 九州大学研究者情報

    • URL

      http://hyoka.ofc.kyushu-u.ac.jp/search/details/K003622/

  • [備考] 電子材料工学研究室

    • URL

      http://plasma.ed.kyushu-u.ac.jp/~inorganic/

  • [備考] researchmap

    • URL

      https://researchmap.jp/itagakinaho

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公開日: 2019-12-27  

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