研究課題
基盤研究(B)
液晶材料で観察される分子配向のトポロジカル欠陥を、イオンの局在化を利用することで、ミクロな領域に規則正しく並べる手法について検討を行った。液晶材料を封入する基板表面を紫外線オゾン洗浄することによって、液晶分子の種類を選ばすにトポロジカル欠陥を整列させる手法を確立した。様々な化合物について実験を行うことで、試料中に含まれるイオンの局在化に関する知見を得た。紫外線オゾン洗浄を選択的な領域に行うことで、自己組織化によるパターン形成を広範囲に渡って極めて一様に制御できることを示した。
ソフトマターの物理
液晶材料において分子配向を制御することは、応用面から常に重要である。従来の液晶デバイスでは、分子配向の欠陥は不必要なものとされてきた。それに対し、近年になり、欠陥構造に由来する光学特性を利用した素子が実用化されはじめ、分子配向欠陥を制御する方法の確立が必要とされている。本研究では、分子配向欠陥を規則正しくミクロなスケールで配列させるボトムアップ型の手法を確立した。欠陥を使った光学実験を実験室レベルで容易に実施できるようになると期待される。
