研究課題/領域番号 |
18H03754
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研究機関 | 大阪大学 |
研究代表者 |
山村 和也 大阪大学, 工学研究科, 教授 (60240074)
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研究期間 (年度) |
2018-04-01 – 2021-03-31
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キーワード | プラズマ / ダメージフリー / 形状創成 / 表面仕上げ / 難加工材料 |
研究実績の概要 |
大気圧下において不安定なアーク放電に移行しやすい現状の高周波電源(f = 13.56 MHz)の連続波モードの適用を代替する 方式として、誘導結合プラズマ(ICP)方式を適用することによりアーク放電への移行を防止し、高電力投入による反応種密度の増大を 図った。ICP発生用の電源として周波数40.68 MHzの高周波電源を適用し、Arベースの高ミチュ度プラズマを発生させることに成功した。 減圧型のプラズマ援用研磨においては単結晶ダイヤモンド基板の研磨レートを向上するためのプラズマ生成パラメータの最適化を行い、アルゴンガスに窒素を5%程度添加することで研磨レートが5倍程度増加し、2.1 μm/hの研磨レートを得た。
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現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
大気圧雰囲気下での加工に用いるICP型装置の立ち上げを完了し、当初の計画通り2019年度において本装置を用いた加工実験を開始できる状況にある。
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今後の研究の推進方策 |
当初の計画通りに研究が進捗しており、今年度は計画を前倒しして遂行できるよう研究開発を実行する。
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