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2018 年度 実績報告書

次世代超高速デバイス実現に向けた新規ディラック原子層材料の開発

研究課題

研究課題/領域番号 18H03874
研究機関東京大学

研究代表者

松田 巌  東京大学, 物性研究所, 准教授 (00343103)

研究分担者 近藤 剛弘  筑波大学, 数理物質系, 准教授 (70373305)
冨中 悟史  国立研究開発法人物質・材料研究機構, 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点, 主任研究員 (90468869)
研究期間 (年度) 2018-04-01 – 2021-03-31
キーワード単原子シート / キャリアダイナミクス / ディラック / 原子層
研究実績の概要

本研究ではグラフェンを超えるディラック電子系を有した原子層材料としてホウ素化合物シートを中心にその開発とダイナミクス研究を行うことを目的としている。
2018年度では蜂の巣構造のボロフェンを水素化したHB単原子シートについて主に取り組んだ。第一原理とタイトバインディング模型による電子状態計算を行った結果、このHBシートは半金属であることが分かった。そして実際の試料を合成して、X線分光測定による電子状態解析を行ったところ、その確認もできた。本研究ではボロフェンの水素化に伴う電子状態変化を詳細に追跡したため、HBシートの電子構造に対する物質設計の指針を得ることができた。本成果は論文発表した。一方、2018年度では本HBシートについて電気伝導測定も行なっており、上記の電子状態に関する結果を裏付けると共に、本物質特有の輸送特性も観測した。本結果についても論文発表を予定している。
2018年度中に準結晶2層グラフェンが発見され、新しいディラック電子系を有していることが報告された。そこで、本研究では高次高調波レーザーを用いた超高速時間分解分光実験を実施し、その超高速キャリアダイナミクスを調べた。その結果、これまでに我々が観測した従来の単層及び2層グラフェンのものとは異なる動的プロセスを観測した。現在新たな高速デバイスとしての可能性を検討している。
2018年度では、代表者は単原子シートに関する教科書(洋書)をElsevier社より出版した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

1: 当初の計画以上に進展している

理由

ホウ素の自立単原子シートであるHBシートについて、理論計算、分光実験、輸送測定の一連のデータを揃えその電子状態を明らかにした。その成果論文を発表及び投稿ができたと共に電子状態を制御した単原子シートの設計指針を立てることができた。
また、新しいディラック物質である準結晶2層グラフェンについて超高速時間分解分光実験を実施し、世界に先駆けてそのキャリアダイナミクスを明らかにすることができた。

今後の研究の推進方策

2018年度に実施したHBシートの電子状態研究では、本物質特有な三中心二電子結合とその配置に対する対称性が電子構造を決定する要因となっていた。そこで、これをもとに本グループで物質設計を行ったところ、ディラックフェルミオンを有した新たなホウ素化合物シートの可能性を見出した。今後はその電子状態を理論的に検証すると共に、本グループが開発した溶液剥離法を実施してシート合成とその評価をX線分光で行う。
一方、2018年度中に我々は基板上への原子蒸着による合成法でもディラックフェルミオンを有した新しい単原子シートを見出している。次の段階として、そのキャリアダイナミクスを高輝度放射光及び高次高調波レーザーを用いた時間分解光電子分光測定により明らかにする。そしてこれらを結果を踏まえて、通信技術開発の研究グループと議論を行い、デバイス利用としての展開を図る。

  • 研究成果

    (14件)

すべて 2019 2018 その他

すべて 国際共同研究 (3件) 雑誌論文 (3件) (うち国際共著 3件、 査読あり 3件) 学会発表 (6件) (うち国際学会 3件、 招待講演 6件) 図書 (1件) 備考 (1件)

  • [国際共同研究] UFRGS(ブラジル)

    • 国名
      ブラジル
    • 外国機関名
      UFRGS
  • [国際共同研究] Sorbonne Universite(フランス)

    • 国名
      フランス
    • 外国機関名
      Sorbonne Universite
  • [国際共同研究] Chinese Academy of Sciences(中国)

    • 国名
      中国
    • 外国機関名
      Chinese Academy of Sciences
  • [雑誌論文] Electronic structure of a monoatomic Cu2Si layer on a Si(111) substrate2019

    • 著者名/発表者名
      Cameau M.、Yukawa R.、Chen C.-H.、Huang A.、Ito S.、Ishibiki R.、Horiba K.、Obata Y.、Kondo T.、Kumigashira H.、Jeng H.-T.、D'angelo M.、Matsuda I.
    • 雑誌名

      Physical Review Materials

      巻: 3 ページ: 044004-1.-5

    • DOI

      https://doi.org/10.1103/PhysRevMaterials.3.044004

    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Semimetallicity of free-standing hydrogenated monolayer boron from MgB22019

    • 著者名/発表者名
      Tateishi I.、Cuong N. T.、Moura C. A. S.、Cameau M.、Ishibiki R.、Fujino A.、Okada S.、Yamamoto A.、Araki M.、Ito S.、Yamamoto S.、Niibe M.、Tokushima T.、Weibel D. E.、Kondo T.、Ogata M.、Matsuda I.
    • 雑誌名

      Physical Review Materials

      巻: 3 ページ: 024004-1,-8

    • DOI

      https://doi.org/10.1103/PhysRevMaterials.3.024004

    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Superstructure-induced splitting of Dirac cones in silicene2019

    • 著者名/発表者名
      B. Feng, H. Zhou, Y. Feng, H. Liu, S. He, I. Matsuda, L. Chen, E. F. Schwier, K. Shimada, S. Meng, and K. Wu
    • 雑誌名

      Phys. Rev. Lett.

      巻: 印刷中 ページ: 印刷中

    • 査読あり / 国際共著
  • [学会発表] 固体表面上単原子層におけるディラック電子系の進化2019

    • 著者名/発表者名
      松田巌
    • 学会等名
      応用物理学会春季大会
    • 招待講演
  • [学会発表] ディラックフェルミオンを有した新規単原子層の開拓2019

    • 著者名/発表者名
      松田巌
    • 学会等名
      日本物理学会 第74回年次大会
    • 招待講演
  • [学会発表] ポストグラフェン、2次元新材料の進展と展望2018

    • 著者名/発表者名
      松田巌
    • 学会等名
      第148回結晶工学分科会研究会
    • 招待講演
  • [学会発表] Two-dimensional Dirac nodal line fermions in a monatomic layer2018

    • 著者名/発表者名
      松田巌
    • 学会等名
      Tsinghua-UTokyo Joint Symposium 2018
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Dirac Δ-Cones in χ3 Borophene2018

    • 著者名/発表者名
      松田巌
    • 学会等名
      Materials Science & Technology 2018 (Columbus, Ohio, USA)
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Discovery of Dirac Monolayers and Elucidation of Functionalities by Advanced Soft X-ray Spectroscopy2018

    • 著者名/発表者名
      松田巌
    • 学会等名
      American Vacuum Society International Symposium & Exhibition
    • 国際学会 / 招待講演
  • [図書] Monatomic Two-Dimensional Layers: Properties, Fabrication and Industrial Applications2018

    • 著者名/発表者名
      Iwao Matsuda 他
    • 総ページ数
      232
    • 出版者
      Elsevier
    • ISBN
      978-0128141601
  • [備考] 研究室ホームページ

    • URL

      https://imatsuda.issp.u-tokyo.ac.jp/

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公開日: 2019-12-27  

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