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2018 年度 実績報告書

電気化学的な電子状態変調による遷移金属酸化物薄膜超伝導体の創製

研究課題

研究課題/領域番号 18H03925
研究機関東京工業大学

研究代表者

大友 明  東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (10344722)

研究期間 (年度) 2018-04-01 – 2021-03-31
キーワード薄膜電子材料 / エピタキシー / 電気化学 / 超伝導材料・素子 / トポケミカル反応
研究実績の概要

本研究は,薄膜化した遷移金属酸化物に対して電気化学的にキャリアをドーピングすることによって,新奇な超伝導体を創製することを目的とする。また,各種の電子相転移を元素横断的に調べ上げ,新奇な物質群を探索しそれらの機能性を明らかにすることを狙いとする。
3年計画の初年度は,薄膜試料の合成と基礎物性の評価に注力した。その結果,LiV2O4やLiNbO2の薄膜を作製することに成功した。LiV2O4とLiNbO2はこれまで多結晶バルク体しか合成されていなかった。作製した薄膜は単結晶であり,これらの物質本来の電気伝導率や光学特性を明らかにした。また,得られた試料に対して電気化学的にLiイオンを挿入・脱離することで電子・ホールドープを試したところ,キャリア量に応じて金属絶縁体転移を示すことを見出した。さらにLiNbO2では超伝導を観測することに成功した。この物質が超伝導体であることはすでに知られている。しかし,その発現機構や電子状態は明らかになっていない。我々はさらに実験を進め,結晶構造に由来する特異な物性を明らかにした。LiNbO2は,NbO6ユニットが遷移金属酸化物でよくみられる八面体ではなく三角柱状の構造を有する。三角柱状NbO6からなる層とLiが積層した2次元物質である。これらの構造上の特徴が,ホールキャリアの増加に従って可視光領域の透明性が増す(通常は減るところが)という特異な物性の発現につながっていると考えられる。p型透明導電体は数多く知られているが,高い透明性と超伝導の両方を示す物質は初めてである。今後,光電子分光スペクトルや磁気抵抗特性を評価し,LiNbO2の電子状態をさらに詳しく調べる予定である。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

単結晶薄膜を用いた超伝導転移や金属絶縁体転移を外場によって制御する研究は,近年基礎・応用の両面から注目を集めている。このことを踏まえ,前項で述べた研究目的を設定した。初年度は,薄膜試料の合成と基礎物性の評価し,前周期遷移金属酸化物の準安定相が得られる合成範囲を見極めることを計画した。具体的には,強還元下におけるパルスレーザ堆積法(強還元PLD)により,種々の基板上にLiV2O4,LiCr2O4やLiNbO2の薄膜をエピタキシャル成長することを計画した。前項で述べた通り,LiV2O4とLiNbO2については順調に進展した。しかしながら,LiCr2O4については,種々検討した結果直接合成することは困難であるとの結論に達した。そこで,まずLiサイトをMgやZnで置換した薄膜を作製し,電気化学的にLiに置換することを検討した。高い結晶性を有するMgCr2O4とZnCr2O4の薄膜を作製することに成功したが,Li置換の実験はうまく行かなかった。このことは,3価のCrが非常に安定であることに由来する。狙いとする3価と4価の混合原子価状態を実現することが極めて難しいことが明らかになった。一連の実験は,準安定相が得られる合成範囲を見極めることにつながった。以上より,初年度としてはおおむね順調に進展していると自己評価した。

今後の研究の推進方策

今後も引き続き薄膜試料の合成と基礎物性の評価に注力し,エピタキシャル安定化により前周期遷移金属酸化物の準安定相が得られる合成範囲を見極める。新たな物質にも取り組む。得られた薄膜試料に対して,フォトリソグラフィ装置,ドライエッチング装置,ワイヤーボンダーを用いて電気特性評価用試料に加工し,電気化学的なキャリアドープ制御を試みる。さらに放射光を用いた光電子分光,X線吸収分光,X線回折評価を実施する予定である。

  • 研究成果

    (22件)

すべて 2019 2018 その他

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 4件) 学会発表 (16件) (うち国際学会 4件、 招待講演 2件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] High pressure study for superconductivity in Ti4O7 films2019

    • 著者名/発表者名
      S. Sekiguchi, T. Shiraishi, K. Miura, C. Kawashima, K. Yoshimatsu, A. Ohtomo, H. Kamioka, H. Takahashi
    • 雑誌名

      Journal of the Physics Society of Japan

      巻: 88 ページ: 035001-1-2

    • DOI

      10.7566/JPSJ.88.035001

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electronic properties across metal-insulator transition in β-pyrochlore-type CsW2O7 epitaxial films2018

    • 著者名/発表者名
      T. Soma, K. Yoshimatsu, K. Horiba, H. Kumigashira, A. Ohtomo
    • 雑誌名

      Physical Review Materials

      巻: 2 ページ: 115003-1-8

    • DOI

      10.1103/PhysRevMaterials.2.115003

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Large anisotropy in conductivity of Ti2O3 films2018

    • 著者名/発表者名
      K. Yoshimatsu, H. Kurokawa, K. Horiba, H. Kumigashira, A. Ohtomo
    • 雑誌名

      APL Materials

      巻: 6 ページ: 101101-1-8

    • DOI

      10.1063/1.5050823

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Band alignment at β-(AlxGa1-x)2O3/β-Ga2O3 (100) interface fabricated by pulsed-laser deposition2018

    • 著者名/発表者名
      R. Wakabayashi, M. Hattori, K. Yoshimatsu, A. Ohtomo
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 112 ページ: 232103-1-4

    • DOI

      10.1063/1.5027005

    • 査読あり
  • [学会発表] Emergent electronic states in metal-oxide heterostructures2019

    • 著者名/発表者名
      A. Ohtomo
    • 学会等名
      Joint Workshop RWTH Aachen University-Tokyo Institute of Technology, Intelligent Surface and Materials (Aachen Univ., Germany)
    • 国際学会
  • [学会発表] 層状LiNbO2におけるp型透明超伝導:NbO6三角柱が創る新規電子状態 (口頭)2019

    • 著者名/発表者名
      相馬 拓人, 吉松 公平, 堀場 弘司, 組頭 広志, 大友 明
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会 (東京)
  • [学会発表] 層状p型半導体LiRhO2の薄膜成長と電気伝導性制御 (ポスター)2019

    • 著者名/発表者名
      相馬 拓人, 吉松 公平, 大友 明
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会 (東京)
  • [学会発表] PLD法による窒素ドープ酸化ガリウム薄膜の成長と電気特性評価 (口頭)2019

    • 著者名/発表者名
      李 政洙, 若林 諒, 斉藤 拓海, 吉松 公平, 加渡 幹尚, 大友 明
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会 (東京)
  • [学会発表] パルスレーザ堆積法を用いたZrH2薄膜の作製:水素不定比の制御 (口頭)2019

    • 著者名/発表者名
      西 暁登, 吉松 公平, 大友 明
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会 (東京)
  • [学会発表] 半絶縁性中間層によるβ-Ga2O3ホモエピタキシャル層の界面伝導の抑制 (口頭)2019

    • 著者名/発表者名
      斉藤 拓海, 若林 諒, 李 政洙, 亀井 海聖, 吉松 公平, 加渡 幹尚, 大友 明
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会 (東京)
  • [学会発表] パルスレーザ堆積法で成長したCrN薄膜の電子物性 (口頭)2019

    • 著者名/発表者名
      横山 竜, 水城 淳, 大友 明
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会 (東京)
  • [学会発表] Electrochemical Li-ion intercalation for control of electronic phases in transition-metal oxide epitaxial films (Poster)2018

    • 著者名/発表者名
      T. Soma, K. Yoshimatsu, A. Ohtomo
    • 学会等名
      2018 MRS Fall Meeting & Exhibit (Boston, USA)
    • 国際学会
  • [学会発表] Electrochemical reaction induced superconducting transitions in metal oxide films (Oral/Invited)2018

    • 著者名/発表者名
      A. Ohtomo, T. Soma, K. Yoshimatsu
    • 学会等名
      BIT’s 8th Annual World Congress of Nano Science & Technology (Nano S&T-2018) (Potsdam, Germany)
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] 電気化学反応による重い電子系スピネルLiV2O4薄膜の電気伝導性変調 (ポスター)2018

    • 著者名/発表者名
      矢島 達也, 相馬拓人, 吉松 公平, 大友 明
    • 学会等名
      第8回CSJ化学フェスタ2018 (船橋)
  • [学会発表] PLD法によるβ-(Ga1-yScy)2O3薄膜成長とバンドギャップ変調 (口頭, 招待)2018

    • 著者名/発表者名
      若林 諒, 吉松 公平, 大友 明
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋)
    • 招待講演
  • [学会発表] 層状LiNbO2の薄膜合成とLi充放電反応を用いた超伝導特性の制御 (口頭)2018

    • 著者名/発表者名
      相馬 拓人, 吉松 公平, 大友 明
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋)
  • [学会発表] Ti4O7薄膜の電子物性制御:膜厚依存性 (口頭)2018

    • 著者名/発表者名
      小林 知央, 吉松 公平, 大友 明
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋)
  • [学会発表] CaH2還元によるNi薄膜のトポタクティック低温合成(口頭)2018

    • 著者名/発表者名
      野口 裕太郎, 吉松 公平, 大友 明
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋)
  • [学会発表] 重い電子系スピネルLiV2O4の薄膜成長と電気化学的Li挿入 (口頭)2018

    • 著者名/発表者名
      矢島 達也, 相馬拓人, 吉松 公平, 大友 明
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋)
  • [学会発表] Thin-film synthesis of functional inorganic materials for energy and environmental issues (Oral)2018

    • 著者名/発表者名
      A. Ohtomo
    • 学会等名
      Workshop on Novel functional materials for energy (1st Workshop on JSPS Core-to-Core Program) (Montreal, Canada)
    • 国際学会
  • [備考] 東京工業大学物質理工学院応用化学系大友研究室

    • URL

      http://www.ohtomo.apc.titech.ac.jp/

  • [産業財産権] 酸化ガリウムの製造方法2019

    • 発明者名
      加渡 幹尚, 大友 明, 若林 諒, 李 政洙
    • 権利者名
      トヨタ自動車株式会社,国立大学法人東京工業大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特願2019-009740

URL: 

公開日: 2019-12-27  

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