| 研究課題/領域番号 |
18K03485
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分13020:半導体、光物性および原子物理関連
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
岩崎 純史 東京大学, 大学院理学系研究科(理学部), 教授 (30447073)
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| 研究期間 (年度) |
2018-04-01 – 2021-03-31
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| キーワード | フェムト秒レーザー / アブレーション / 過渡反射 / 二温度モデル |
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| 研究成果の概要 |
金属表面などの固体試料において、光パルスによる励起によって反射率が時間変化することがよく知られており、これは光吸収後の電子励起による電子温度の励起が、周りの格子系に緩和することに起因する。本研究では、固体表面における紫外光パルス励起によって起きる反射率の時間変化が、過渡的な誘電率の変化によることを、実験とシミュレーションとの比較によって明らかにした。励起フルエンスを大きくすることによって、励起される状態が増えることによって、誘電率の変化を誘起していることがわかった。
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| 自由記述の分野 |
レーザー分光、強レーザー場科学
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
様々な物質と光との相互作用を応用した光を使った技術は、身の回り環境の計測やものづくりに用いられています。この研究では、光が物質と相互作用するときに、最初に起きる主な過程である光吸収と、物質がその結果どのように励起されて結合解離やアブレーションなどの物質加工に至るのか、ということについて、短い時間での物質の様子を実時間に観測する手法を用いて測定しました。この結果を再現するかシミュレーションしたところ、試料膜厚や光励起フルエンス、励起波長による実験条件の違いによる実験結果をよく再現することが明らかとなりました。
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