| 研究課題/領域番号 |
18K03891
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| 研究機関 | 富山高等専門学校 |
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研究代表者 |
西田 均 富山高等専門学校, その他部局等, 特命フェロー(教育・研究支援) (00390435)
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| 研究分担者 |
井門 康司 名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (40221775)
島田 邦雄 福島大学, 共生システム理工学類, 教授 (80251883)
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| 研究期間 (年度) |
2018-04-01 – 2022-03-31
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| キーワード | 磁気混合流体 / 精密研磨 / 形状精度 / 微細V溝 / 磁場 / 電場 |
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| 研究実績の概要 |
1. 加工量分布の予測法の検証 開発した予測法を用いて，円錐台形状工具の場合の加工量分布を予測して，本予測法の精度と特性を明らかにした．
2. 磁場・電場複合印加方式による平面内微細V溝の全面研磨実験 開発した平面用研磨装置を用いて，磁場と電場の同時印加による平面および平面内微細V溝に対する全面研磨実験を行い，研磨特性を明らかにした．直流磁場のみの場合，V溝底部の研磨が行われない．しかし，直流磁場に電場を印加することによりV溝底部を含んだ全面研磨が行われた，この場合，V溝角部と斜面に形状変化を起こすことがわかった．パルス磁場のみの場合，V溝角部と斜面では形状を保持した研磨が行われるが，V溝底部は平滑化が進まないことがわかった．パルス磁場に電場を印加した場合では形状を保持したV溝底部を含んだ全面研磨が行われることが明らかになった．
3. 研磨に及ぼすMCFのER効果 磁場に加え電場を印加することにより，V溝底部が平滑化される原因を定点研磨・トルク計測装置による実験結果から考察した．MCFは電気粘性流体効果(ER効果)を有することから，電場下で砥粒は帯電して加工面に付着・配置されると推察される．
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
3: やや遅れている
理由
直流磁場と電場の同時印加の平面に対する全面研磨実験において，予期せぬ電流の急上昇(導通)が起こった．この現象の原因と対策を明らかにする必要が生じているため．
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| 今後の研究の推進方策 |
1. 検証実験の実施 直流磁場と電場の同時印加の平面に対する全面研磨において，電流の急上昇が見られた．この現象と原因を明らかにするための再実験と検証実験を行う．
2. 成果の公表 本研究の検証実験を含めた成果をまとめ，これを学会誌に論文投稿する．
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| 次年度使用額が生じた理由 |
本研究課題をより精緻に達成するために事業期間を延長した．このための，追加実験，打合せ・学会発表出張，および，論文投稿の費用に使用する．
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