研究成果の概要 |
垂直磁気異方性を有する磁気トンネル膜(構成: Ta/Ru/TaN/[Co/Pt]4/Ru/[Co/Pt]3/W /CoFeB/MgO /CoFeB(1.4)W/CoFeB/MgO/cap)をスパッタ法により形成し、フリー層直径10nm~90nmの素子を加工した。直径13~20nmの領域では、素子サイズの低下とともに保磁力は減少した。フリー層直径20nm以下ではMTJは困難軸特性を示し、垂直磁場に対するコンダクタンス変化10%、ダイナミックレンジ15~20 mT, 磁気感度0.5~0.7%/mT, non-linearity 5%, Hoogeパラメーター1x10-10[μm2]が測定された。
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