回転デイスクと回転リング-デイスク電極を用いることにより長時間使用済の液の添加剤濃度をモニターすることが出来た。特にリング電極により一価銅錯体がモニターできた。4添加剤が入った穴埋めめっき液の添加剤をモニターし、不足分を添加することにより長時間使用済みの穴埋めが再び可能となった。また完全充填とは異なる特性の低線膨張銅めっき液の添加剤のモニターにも成功した。20時間電解した使用済液をモニターして、回転リング-デイスク電極のリング電極を用い、不足分の2M5S添加剤をモニター・添加した。添加することにより復元し、電解していない液の線膨張とほぼ同じ線膨張をしめした。
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