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2019 年度 実施状況報告書

特異な構造を自己形成する鉄酸化物薄膜の開発と光触媒機能の発現

研究課題

研究課題/領域番号 18K04761
研究機関公益財団法人電磁材料研究所

研究代表者

阿部 世嗣  公益財団法人電磁材料研究所, 新機能材料創生部門, 主席研究員 (20202666)

研究期間 (年度) 2018-04-01 – 2021-03-31
キーワード鉄酸化物 / 特異構造 / スパッタリング / Ge添加 / 光触媒
研究実績の概要

本年度は、鉄酸化物の特異構造の形成と添加濃度の関係について検討を行った。すなわち、添加元素として、昨年度の検討で最も良好な結果が得られたGeを選択し、濃度を種々変化させて検討を行った。薄膜の作製はRFスパッタリング法を用い、ターゲットとしてFe3O4円盤上にGeチップを設置し、成膜雰囲気としてArを用い、水冷ガラス基板上に成膜した。次いで、773Kで大気中熱処理を行った。特異構造は、薄膜表面にナノスケールの凹凸を有するα-Fe2O3と、内部にGeを含むFe3O4相から構成される。純Fe3O4薄膜を大気中で熱処理すると、酸化が急激に進行し、α-Fe2O3に相変化するため、当該構造の作製には、耐酸化性を発現する元素の添加が不可欠となる。全てのGe濃度において、大気中熱処理時間の増加と共に徐々に酸化が進行し、薄膜の磁化は減少する傾向を示す。また、薄膜の磁化は、Ge濃度に対しピークを伴って変化する。熱処理時間に対し最も耐酸化性を有する濃度は、成膜状態において最も磁化の大きい濃度と一致する。また、焼結体についても検討を行った。すなわち、三種の原料を混合し、プレス成型した後、透明石英管中に真空封入を行った。次いで、1273Kで48h熱処理した後、水焼き入れし、単相の固溶体を得た。次いで、773Kで大気中熱処理を行った。その結果、Geを含まないFe3O4では、熱処理時間の経過と共に急激に磁化が減少し、α-Fe2O3に相変化するのに対し、x=0.2(GexFe3-xO4)では比較的磁化が保持され、耐酸化性を発現する。また、透過型電子顕微鏡を用いた構造観察では、表面にα-Fe2O3相と、内部にGeを含むFe3O4相が形成され、薄膜と類似した構造が形成される。すなわち特異構造は、薄膜や焼結体を問わず、本質的な挙動として形成されることが明らかになった。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

本研究の遂行に際し、以下の研究項目を設定した。すなわち、1)最適な添加元素の探索と濃度の最適化、2)鉄酸化物ターゲット材料の最適化、3)当該構造を有する鉄酸化物薄膜の光触媒機能の発現。これら一連の研究を通じて、材料創製、構造最適化および機能発現の知見を各項目に有効に反映させ、効率的に推進する。本年度は、1)および2)の研究項目について集中的な検討を行い、実績の概要に示す成果を得た。また、並行して他の項目についても着実に進捗しており、おおむね良好な進捗状況であると判断した。

今後の研究の推進方策

昨年度までに得られた結果を踏まえ,引き続き研究計画を円滑に遂行するよう努める.特に、昨年度の成果において、耐酸化性の発現に最適なGe濃度が明らかになると共に、焼結体においても薄膜と同様に特異構造を自己形成することが明らかになったことから、今後、粉末形状の検討や光触媒機能との関係についても検討する予定である。

  • 研究成果

    (6件)

すべて 2020 2019 その他

すべて 学会発表 (4件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [学会発表] 耐酸化性を発現するGe添加鉄酸化物薄膜における添加濃度の最適化2020

    • 著者名/発表者名
      阿部世嗣
    • 学会等名
      日本金属学会春期講演大会
  • [学会発表] 金属元素 金属元素 (Mg,Cu)添加 α-Fe2O3;のテラヘルツ帯屈折率測定 のテラヘルツ帯屈折率測定2020

    • 著者名/発表者名
      荒木 航, 田邉 匡生, 阿部 世嗣, 小山 裕
    • 学会等名
      日本金属学会春期講演大会
  • [学会発表] GexFe3-xO4固溶体の作製と大気中熱処理によるヘテロ構造化2019

    • 著者名/発表者名
      阿部世嗣
    • 学会等名
      日本金属学会秋期講演大会
  • [学会発表] マグネシウム添加α-Fe2O3 のテラヘルツ帯屈折率測定2019

    • 著者名/発表者名
      荒木 航, 田邉 匡生, 阿部 世嗣, 小山 裕
    • 学会等名
      日本金属学会秋期講演大会
  • [備考] researchmap

    • URL

      https://researchmap.jp/

  • [産業財産権] 光触媒2020

    • 発明者名
      阿部世嗣
    • 権利者名
      公益財団法人電磁材料研究所
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特願2020-016034

URL: 

公開日: 2021-01-27  

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