本研究では,大気圧プラズマCVD法で作製したシリカ膜の透過選択性の向上を目指して,様々な製膜条件が膜構造および透過特性に及ぼす影響を明らかにした.シリカ前駆体(hexamethyldisiloxane(HMDSO)およびtetramethyldisiloxane(TMDSO)を用いた)の分子構造や放電ガス組成(希釈ガス種(HeまたはAr)や添加ガス(N2)濃度)を制御することによって,シリカネットワークがつくるサブナノ細孔サイズを制御できることが分かった.得られた膜は,優れた水素透過選択性を示した.
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