本研究は基板表面に対して法線方向の構造設計自由度が高く、作製速度の速い、新しい3次元微細構造作製技術として磁場アセンブリ法を進化させ、この技術を用いて熱赤外線を選択的に反射するアンテナ構造を基板上に一括形成することにより、経済的に遮熱基板を実現することを目的とした。 従来の微細加工技術を用いて複雑なパターンを形成した2次元部品を、磁場アセンブリおよびUV照射による基板との融着を経て基板上に垂直配置することが出来た。従来法では作製困難な3次元パターンを1ステップで作製できたと言える。しかし、位置制御性が低い課題を克服することが出来ず、光学特性を取得することは出来なかった。
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