あらゆる光をとらえて逃がさない、完全黒体シートをイオンビーム加工でつくる

研究成果発表報告書

• 研究課題/領域番号: 18K11940
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分80040:量子ビーム科学関連
• 研究機関: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
• 研究代表者: 雨宮 邦招 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 研究グループ長 (60361531)
• 研究期間 (年度): 2018-04-01 – 2021-03-31

研究成果

• [産業財産権] 光吸収体およびその製造方法 (2023)
  • 発明者名: 雨宮 邦招
  • 権利者名: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 特願2022-546218
• [産業財産権] 光吸収体およびその製造方法 (2023)
  • 発明者名: 雨宮 邦招
  • 権利者名: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: US18/024,346, EP21864119.9
  • 外国
• [産業財産権] 光吸収体およびその製造方法 (2021)
  • 発明者名: 雨宮 邦招
  • 権利者名: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: PCT/JP2021/30293
  • 外国