| 研究課題/領域番号 |
18K12105
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| 研究機関 | 広島工業大学 |
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研究代表者 |
山田 憲嗣 広島工業大学, 工学部, 教授 (70364114)
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| 研究期間 (年度) |
2018-04-01 – 2021-03-31
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| キーワード | ナノ / フォトニクス / DNA |
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| 研究実績の概要 |
フォトニックＤＮＡナノマシーンを利用した超低侵襲ドラッグサージェリーシステムの試作を行い，システムの特性や性能を評価する基盤技術の確立を目指している．
研究代表者らは，学術研究助成基金（平成24年度～平成26年度）基盤研究C「フォトニクスＤＮＡナノマシーンによる低侵襲ドラッグサージェリーシステム 」において，システムの基盤技術となるフォトニックＤＮＡナノマシーンの設計及び具現化を行い，ＤＮＡナノマシーンのリポソームへの実装方法の確立を目指した．フォトニックＤＮＡナノマシーンは，ＤＮＡ光ピンセット構造体をベースとし，分子センサ機構と光出力機構を付加した系をもつ．光制御可能なＤＮＡピンセットの相補鎖部分に検出分子による阻害機構を付加し，分子センサとしての機能をもつことが特徴である．またピンセットの開閉状態により，光機能性分子からのエネルギー移動を制御し光信号を出力することが可能であることを確認した．
フォトニックＤＮＡナノマシーンを患部へ的確に噴霧するため，フォトニックＤＮＡナノマシーンのリポソームへの実装方法の確立を目指したが，温度や湿度など環境条件が変化するなどしたため，リポソームの状態が不安定で実装に至ることが困難であった．近年，田中貴金属工業などリポソームの量産体制が確立し，安定したリポソームの委託生産が可能となってきた．ここでは，フォトニックＤＮＡナノマシーンをリポソームに内包する設計を行い，量産型リポソームの利用を検討し，試作検討を行った．
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
3: やや遅れている
理由
フォトニックＤＮＡナノマシーン含有リポソームの設計・試作において、試作を繰り返しており、最適設計を見いだせていない
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| 今後の研究の推進方策 |
フォトニックＤＮＡナノマシーン含有リポソームを設計・試作を行い、最適なパターンのもととなる基板のパターンを設計し，フォトニックＤＮＡナノマシーンが含有できるスペースの形や大きさなどを検討する．パターンのアスペクト比が大きいことが予測できることから，シリコーンゴムを精度良く抜く手法についても確立する必要があるため，油相以外の方法の検討を行う．
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| 次年度使用額が生じた理由 |
試作システムを作成する際の人件費がかからなかっため、次年度の実験補助で使用する。
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