シリル基の特性を利用した位置選択的C-H官能基化反応の開発

2019 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 18K14866
• 研究種目: 若手研究
• 配分区分: 基金
• 審査区分: 小区分47010:薬系化学および創薬科学関連
• 研究機関: 京都大学
• 研究代表者: 上田 善弘 京都大学, 化学研究所, 助教 (90751959)
• 研究期間 (年度): 2018-04-01 – 2020-03-31
• キーワード: C-H官能基化 / 位置選択性 / ケイ素 / アミノ化 / ロジウム

研究成果の概要

シリル基の立体電子効果に着目し、配位性配向基を持たない有機ケイ素化合物のβ位選択的C-H官能基化手法を開発した。特にロジウム二核錯体触媒を用いるC-Hアミノ化は効率よく進行することがわかり、βアミノシラン類の効率的合成法となった。実験及び計算化学に基づく反応機構解析の結果、シリル基のβ効果が位置選択性発現の主要因であることがわかった。触媒的不斉反応への展開も行い、良好な光学純度で生成物を得ることができた。

自由記述の分野

医歯薬学

研究成果の学術的意義や社会的意義

有機化合物に普遍的に存在するC-H結合を直接望みの結合に変換する手法の開発は、合成工程を革新する可能性から盛んに研究が行われている。本研究ではシリル基のβ効果に着目し、これまで報告例のないβ位選択的C-Hアミノ化法を開発することができた。本法は有用なビルディングブロックであるアミノシラン類を単純な有機ケイ素化合物から効率的に合成できる手法として価値が高く、不斉反応への展開も可能であることから、ファイケミカルの効率的合成への展開が期待される。