|
RNAシーケンシングを用いた単純ヘルペスウイルス（herpes simplex virus: HSV）ゲノム由来の網羅的遺伝子発現解析により、治療遺伝子組み込み部位の至適領域の候補を同定した。領域ごとに遺伝子発現の持続性に違いがあることが明らかになり、このことから１）治療遺伝子を一過性に発現させたい場合、と２）持続的な発現を目指す場合、のそれぞれに適した領域があることが明らかになった。そこで前年度までに、これらの領域に治療遺伝子発現のためのGatewayカセットを挿入したベクターを作製した。
今年度は、前年度までに作製したベクターと従来のHSVベクターの比較を行った。持続発現用のべクターは従来のべクターよりも生物学的力価が高い傾向にあり、遺伝子導入効率についても期待できる結果が得られた。一方、一過性発現用のベクターは培養細胞を用いたベクター作製の際、産生効率の著しい低下が見られた。これは一過性発現に適した領域にGatewayカセットを挿入した影響であると考えられ、本領域がベクター産生に必須であることが示唆された。現在、この問題を解決するためのベクター作製法を開発中である。
今年度はまた、さらなる遺伝子導入効率の改善を図るため、細胞への接着に関わるエンベロープ糖タンパク質の遺伝子に改変を加えた。また、ウイルスベクターを標的組織に特異的に送達するための新しい手法を開発した。これは原理的にはウイルスベクター全般に応用可能な手法であるため、現在、本手法のHSVベクターへの応用を試みている。
|
