原子層ヘテロ構造の例としてInGaN層 の厚さが1.5nm、2,4nmおよび3.0nmのGaN/InGaNヘテロ接を作製し、ヘテロ接合にフェムト秒レーザーを照射し、放射されるテラヘルツ波から、量子井戸構造への光励起が、ヘテロ接合面における歪を解消すると同時にテラヘルツ帯音響フォノンパルス生成され、そのGaN中の伝搬と電荷ダイナミクスの関係を明らかにた。(現在論文執筆中) またグラフェン半導体接合面における電荷注入を光励起で行うことで、半導体表面での高速電荷を記述する理論式を新たに導き、現在投稿中である。 またベース材料として、カーボンナノチューブを想定し、その高速電荷ダイナミクスを明らかにした。
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