代表者が先駆的に開発した2次元正孔ガスによる表面p型蓄積層を利用したダイヤモンドpチャネルFETを基礎に、以下の目的で研究を実施する。 (1)新たなヘテロ界面創出による2次元正孔ガスのキャリア密度と移動度を向上させる。 (2)FET構造最適化により高電圧、高周波、耐環境での性能向上を行い、実用に耐えうる高出力・高周波動作を検討する。 (3)高濃度ボロンドープp型層での超伝導を利用したゼロ抵抗ソース・ドレインのFETやチャネルの開閉に超伝導-常伝導を利用する超伝導FET等の斬新なデバイス開発を行う。
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