| 研究課題/領域番号 |
19206008
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
高井 幹夫 大阪大学, 極限量子科学研究センター, 教授 (90142306)
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| 研究分担者 |
若家 冨士男 大阪大学, 極限量子科学研究センター, 准教授 (60240454)
阿保 智 大阪大学, 極限量子科学研究センター, 助教 (60379310)
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| キーワード | ナノビーム / コヒーレント電子 / 真空ナノエレクトロニクス / 電子波干渉 / 電子ビーム / 電界電子放出 / フィールドエミッション / ビーム誘起堆積 |
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| 研究概要 |
(1)低エネルギー低損傷ナノビームプロセスの完成
15keVのエネルギーの電子ビームを有機Ptガス雰囲気中でタングステンチップ上に照射することによりエミッタ部を形成後、酸素プラズマアッシング処理によりナノ間隙エミッタを作成する技術を完成した。このエミッタからの電子放出により、干渉縞のあるエミッションパターンを観測した。
(2)ビーム誘起堆積で作成されたエミッタのナノメートル3次元分析
イオンナノプローブにより電子ビーム堆積させたPt層の3次元分析を行い、Pt分布を3次元可視化した。
(3)ビーム誘起堆積で作成されたエミッタの電気伝導特性の評価
堆積Pt層の電気伝導度と電子のコヒーレンシーを低温計測し、400℃以上の熱処理により、抵抗が3桁下がることと、電子のコヒーレント長が40nm程度になることを明らかにした。
(4)エミッションパターン評価装置の開発
極低温から室温までの温度で電子放出計測が可能で、フィールドエミッションマイクロスコープとフィールドイオンマイクロスコープ機能を持ち、電子のナノ間隙放出サイトを特定可能な装置を完成した。
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