研究課題
基盤研究(A)
本研究の目的は、X線自由電子レーザー(X-ray Free Electron Laser ; XFEL)や波長13.5nmの極紫外光(Extreme Ultra-Violet ; EUV)を用いたEUVリソグラフィー(EUVL)技術から要請される次世代高精度ミラー、すなわち最大サイズ500mm×300mm(EUVLの場合φ300mm)、非球面量15μm以上に対して、形状誤差を0.08nm-RMSの精度で大型自由曲面の形状計測可能なシステムを構築することである。提案した新しい形状計測法の原理は、レーザーの直進性を活用し、光源から出射されたレーザービームがミラーに反射されて、光源の位置にある検出器の中心に戻るように2軸2組のゴニオメータを制御して、ミラーの任意測定点(座標)の法線ベクトルを測定することから形状を求めるものである。このように、直進運動より精度の高い回転運動を用いることで、広範囲に亘って超精密な形状を計測する方法である。また、これまで広く用いられている干渉法と異なり、基準面を必要としない点が大きな特徴である。そして、基準面を用いる必要が無いため、原理的に測定形状に制限がなく、自由曲面の計測に対応している。
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The European Physical Journal Special Topics VOL. 167
ページ: 113-119
