研究課題
基盤研究(A)
半導体ナノワイヤを用いた量子集積ハードウェアを構築するため、高均一、高密度の半導体ナノワイヤの形成技術を確立し、それを用いた電界効果トランジスタ(FET)作製と評価を行った。特にシリコン基板上に垂直に配向したナノワイヤを用いた縦型FETの作製技術を確立した。また、ナノワイヤを縦型に集積化した論理回路を提案するとともに、ナノワイヤを横方向に集積化して配列する手法について検討した。
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Appl. Phys. Express 3
ページ: 025003
J. Cryst. Growth 315
ページ: 52-57
Nanotechnology 20
ページ: 145302
Applied Physics Express 2
ページ: 035004
Nano Lett 9(1)
ページ: 112-116
Journal of Crystal Growth 310
ページ: 5111-5113
Appl. Phys. Lett 93
ページ: 073105
Nano Lett 8(10)
ページ: 3475-3480
physica status solidi (c) Vol.5
ページ: 2722-2725
ページ: 2743-2745
Nanotechnology 19
ページ: 265604
Physica E Vol.40,No6
ページ: 2204-2206
J. Cryst. Growth Vol.310,No.7-9
ページ: 2359--2364
Japanese Journal of Crystal Growth 34,No.4
ページ: 224-232
Jpn. J. Appl. Phys 46
ページ: L1102
Nano Lett 7(12)
ページ: 3598-3602
ページ: 7562
Appl. Phys. Lett 91
ページ: 131112
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