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2008 年度 実績報告書

希釈ビスマスIII‐V族半金属半導体混晶GaInAsBiの創製と物性制御

研究課題

研究課題/領域番号 19360008
研究機関京都工芸繊維大学

研究代表者

吉本 昌広  京都工芸繊維大学, 工芸科学研究科, 教授 (20210776)

研究分担者 尾江 邦重  京都工芸繊維大学, 工芸科学研究科, 教授 (20303927)
キーワード半導体半金属混晶 / 発光波長温度無依存 / 分子線エピタキシー / ビスマス / III-V族半導体 / 多重量子井戸 / レーザダイオード / ホトルミネセンス
研究概要

初年度は分子線エピタキシー法を用いてIn_xGa_<1-x>As_<1-y>Bi_yを成長し、組成に応じてピーク波長1.6から2.1μmのホトルミネセンス(PL)が得られた。しかし、発光強度が弱く発光波長の温度係数を明確に求められなかった。本年度は、In_xGa_<1-x>As_<1-y>Bi_yを含む多重量子井戸構造(MQW)を作製することで、In_xGa_<1-x>As_<1-y>Bi_yの発光強度の増大を図った。まず、GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs MQWを製作した。従来、Biを含む混晶はBiの偏析が懸念され、MQWの製作は困難とされてきた。GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs MQWの製作中に、反射高速エネルギー電子線回折強度の振動が見られ、MQWは一原子層ごとに成長できることが確認できた。(1)X線回折パターンでMQWに起因する明瞭なサテライトピークが確認できること、(2)試料の透過電子顕微鏡(TEM)像で、平坦な界面と乱れのない格子像が見られることから、Biを含有する混晶を用いてMQWが製作できることを、世界で初めて実証した。GaAs_<0.891>Bi_<0.109>/GaAs MQWからは、通信用波長帯1.3μmにおけるPL発光を室温において観測した。GaAs_<0.946>Bi_<0.054>/GaAs MQWの発光波長の温度係数は約-0.19meV/Kであり、GaAsの禁制帯幅の温度係数の約1/2に無依存化した。このMQWは、400℃程度での低温成長が必要にもかかわらず、800℃まで熱的に安定であった。Biを含有する混晶を含むMQWは、高温でのデバイスの製作プロセスに耐えることが明らかになった。次に、In_<1-y>Ga_yAs_<1-x>Bi_x/GaAs MQWを製作した。二次イオン質量分析とX線回折、TEM観察によりMQWが製作できていることを明確にし、ホトルミネセンス発光を得た。引き続き、製作条件の改善やアニールにより発光強度の向上を図る。

  • 研究成果

    (9件)

すべて 2009 2008

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (7件)

  • [雑誌論文] Structural investigation of GaAs1-xBix/GaAs multiquantum wells2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Tominaga, Y. Kinoshita, K. Oe, M. Yoshimoto
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. 93

      ページ: 131915-1-131915-3

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Growth of GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs multi-quantum wells by molecular beam epitaxy2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Tominaga, Y. Kinoshita, G. Fene. K. Oe, M. Yoshimoto
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) 5

      ページ: 2719-2721

    • 査読あり
  • [学会発表] Growth of InGaAsBi/GaAs Multi-Quantum Wells on (100) GaAs Substrate2009

    • 著者名/発表者名
      K, Yamada, Y. Tominaga, K. Oe, M. Yoshimoto
    • 学会等名
      The 2009 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai
    • 発表場所
      吹田市
    • 年月日
      2009-05-15
  • [学会発表] GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs多重量子井戸の構造評価2009

    • 著者名/発表者名
      富永依里子, 尾江邦重, 吉本昌広
    • 学会等名
      第56回応用物理関係連合講演会
    • 発表場所
      つくば市
    • 年月日
      2009-03-31
  • [学会発表] (100) GaAs基板上In_<1-y>Ga_yAs_<1-x>Bi_x/GaAs多重量子井戸構造の製作2009

    • 著者名/発表者名
      山田和弥, 富永依里子, 尾江邦重, 吉本昌広
    • 学会等名
      第56回応用物理関係連合講演会
    • 発表場所
      つくば市
    • 年月日
      2009-03-31
  • [学会発表] GaAsBi/GaAs multi-quantum wells with well-defined multi-layered structures2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Tominaga, Y. Kinoshita, K. Oe. M. Yoshimoto
    • 学会等名
      IEEE Nanotechnology Materials and Devices Conference 2008
    • 発表場所
      京都市
    • 年月日
      2008-10-10
  • [学会発表] 1.3μmでのホトルミネセンス発光を有するGaAs_<1-x>Bi_x/GaAs多重量子井戸構造の製作2008

    • 著者名/発表者名
      富永依里子, 木下雄介, 尾江邦重, 吉本昌広
    • 学会等名
      第33回結晶成長討論会
    • 発表場所
      仙台市
    • 年月日
      2008-09-11
  • [学会発表] Fabrication of GaAsBi/GaAs multi-Quantum well structures with 1.3μm2008

    • 著者名/発表者名
      富永依里子, 木下雄介, 尾江邦重, 吉本昌広
    • 学会等名
      第27回電子材料シンポジウム
    • 発表場所
      伊豆市
    • 年月日
      2008-07-11
  • [学会発表] Growth of GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs multi-quantum wells with 1.3μm photoluminescence emission2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Tominaga, Y. Kinoshita, K. Oe, M. Yoshimoto
    • 学会等名
      50th Electronic Materials Conference
    • 発表場所
      Santa Barbara, CA, USA
    • 年月日
      2008-06-25

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公開日: 2010-06-11   更新日: 2016-04-21  

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