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有機合成的技法により、固体表面を不動態化させる有機単分子層の作製技術を展開させ、半導体表面及び金属表面上の有機単分子層の作成法と観測法を開発することを目指して、具体的には、ケイ素単結晶表面上の2個またはそれ以上の表面ケイ素原子に直接共有結合した炭化水素系の吸着種の為す単層"組織層"を作製や、アルミニウム等の金属表面上に有機単分子層を作製を行い、これら単分子層の不動態化特性を評価し、その微視的構造と物性を明らかにするため、既存の実験装置の適合化や、本研究で新規に開発利用する赤外吸収分光装置の準備を進めた。赤外吸収分光装置を新規に購入し、試料周りの装置部分品等を取り揃えて、測定可能な状況となった。本年度は、アルミニウム表面の単分子層による不動態化をめざして、まず清浄表面の作成と清浄表面の酸化プロセス、及び酸化をブロックする表面層の作製を、主としてX線光電子分光法でモニターしながら行っている。イオン化した炭化水素によるボンバードメントで炭素の超薄膜を作製することがでぎた。ケイ素表面の有機単分子層については、各種の軌道放射X線分光によりメチル終端面及びアリルアミン終端面につき、電子状態を介した疎水性の評価が行われ、不動態化の起源を探ることができた。表面の酸化を防止するひとつのアプローチとして、超清浄水素終端ケイ素表面の作製とその初期酸化課程を調べた。不動態化ケイ素ウエハを赤外吸収分光の基板に応用して、生体物質として重要なリン脂質分子の膜内電解反応を振動スペクトルで調べた。これらの成果は実用に結びつく可能性があり、外部発表を一部見合わせて、特許出願を目指している。
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