| 研究概要 |
本研究では,ナノテクノロジーにおける三次元形状評価を定量的に行うことを容易に実現し,微小構造物の定量的三次元形状計測が困難な現状を打開することのできる新しい計測技術開発を目指している.具体的には,テラビット/inch^2の情報ストレージの高密度化のためのデバイスの製作精度評価が可能な,三次元微小構造物の非接触形状計測技術を開発する.このために,モアレトポグラフィを光の回折の影響を受けることなく微細構造物の測定を可能にすることを目的に,モアレトポグラフィの光源を光から電子線へ改めることによって,数μmの構造物を数10nmの測定精度で三次元計測できるシステムの実用を目指した技術開発を行っている.
平成20年度には,SEMの改造・格子作製・格子位置決めシステムにおいて,当初10μmの格子作製技術を確立することとしていたが,さらなる技術革新によりピッチ4μmの格子を作製する技術を開発した.これにより,分解能を計画した以上に高めることができた.
縞走査技術を加味した格子位置決めシステムの構築に関しては,計画どおりに,SEM内に設置するPZT圧電素子を用いた格子移動システムを製作し,真空チャンバー内の格子を遠隔操縦することにより,数nmの位置決めを可能とした.
縞解析に関しては,申請書の計画通りに,縞走査技術に基づいて,サブマイクロメーターの測定精度を実現した.
以上の研究成果をSPIE(Optomechatronic Technology 2008)において報告した.さらに,SPIE(Optical Engineering+Applications)において報告する予定である.
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