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2009 年度 実績報告書

超熱分子ビームによる次世代ナノファブリケーションの実空間"その場"観察

研究課題

研究課題/領域番号 19360336
研究機関独立行政法人日本原子力研究開発機構

研究代表者

吉越 章隆  独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究副主幹 (00283490)

研究分担者 寺岡 有殿  独立行政法人 日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (10343922)
キーワード超熱分子線 / 走査型プローブ顕微鏡 / 並進運動エネルギー / 実空間"その場"観察 / Si(111)-7×7の室温酸化 / 放射光リアルタイム光電子分光 / 空間選択的反応 / 反応機構
研究概要

本研究の目的は、超熱分子ビームによる次世代ナノファブリケーションの実空間"その場"観察の実現である。近年、極薄膜の組成および膜厚を特定領域に原子レベルで制御することが、ナノデバイス開発にとって不可欠となっている。分子ビームの並進運動エネルギーを利用すれば、熱反応では困難な空間選択的表面化学反応の実現が期待できる。これまで放射光リアルタイムXPS(SR-XPS)によって、反応時間に伴う吸着量および化学結合状態を詳細に調べてきたが、平均的な空間情報であった。そこで、並進運動エネルギーに依存した表面形状の違いを走査型トンネル顕微鏡により原子レベルで"その場"観察をする。SR-XPSと相補的に実験を進めることで、表面化学反応機構の全体像を詳細に明らかにする。当該年度に実施した研究は以下の通りである;
1.Si(111)-7×7表面の室温酸化に関して、反応量、初期吸着確率および化学結合状態に及ぼす酸素分子の並進運動エネルギーの効果をSR-XPSの観測データから明らかにした。
2.SPring-8のBL23SUのSUREAC2000に走査型プローブ顕微鏡システムを導入し、表面化学反応の"その場"原子分解能観察を放射光ビームラインにおいて実現した。
3.レストアトムとSi^<4+>を含む酸化物の共存を示唆するSR-XPSで見出したバックフィリング室温酸化条件に関して、7×7構造と7×7のアドアトムに沿う一次元状酸化物の存在をリアルタイムSTM観察によって確認した。
4.並進運動エネルギーが0.06eVと2.3eVの条件におけるSi(111)-7×7表面の室温酸化に関して、分子線照射後の表面形状に明瞭な違いがあることを見出した。
5.実空間観察の実験対象として、Ge等のさまざまな産業応用上重要な固体表面酸化反応の並進運動エネルギー効果をSR-XPSで詳細に調べた.

  • 研究成果

    (61件)

すべて 2010 2009

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 4件) 学会発表 (55件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Si-doping for the Protection of Hydrogenated Diamond-like Carbon Films in a Simulated Atomic Oxygen Enviroment in Low Earth Orbit2009

    • 著者名/発表者名
      K.Yokota
    • 雑誌名

      Trans.JSASS Space Tech.Japan 7

      ページ: 37-42

    • 査読あり
  • [雑誌論文] A diamond-like carbon film by hyperthermal atomic oxygen exposures2009

    • 著者名/発表者名
      K.Yokota
    • 雑誌名

      Appl.Surf.Sci. 255

      ページ: 6710-6714

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Atomic layer fluorination of highly oriented pyrolytic grafite during hyperthermal atomic fluorine beam2009

    • 著者名/発表者名
      M.Tagawa
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Express 2

      ページ: 066002-1-3

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Kinetics of oxygen adsorption and initial oxidation on Cu(110)by hyperthermal oxygen molecular beams2009

    • 著者名/発表者名
      K.Moritani
    • 雑誌名

      J.Phys.Chem.A 113

      ページ: 15217-15222

    • 査読あり
  • [雑誌論文] 放射光リアルタイム光電子分光で観たSi(111)表面の酸化過程2009

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 雑誌名

      The papers of Technical Meeting on Optical and Quantum Devices, IEE Japan OQD-09-56

      ページ: 67-70

  • [学会発表] 酸素分子線照射量に依存したSi(111)表面の形状変化のSTM観察-並進運動エネルギーを2.2eVとした場合-2010

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] 超音速酸素分子線によるSi(111)-7×7表面の室温酸化後のSTM観察2010

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] 放射光XPSによるSio_2/4H-SiC構造の伝導帯オフセット評価2010

    • 著者名/発表者名
      桐野嵩史
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] 極薄EOT実現に向けたプラズマ窒化応用high-k/Geゲートスタックの提案2010

    • 著者名/発表者名
      朽木克博
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] 高水素化DLC膜からの水素脱離に対する表面金属酸化膜の効果2010

    • 著者名/発表者名
      田川雅人
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] 高水素化DLC膜への真空紫外線照射効果2010

    • 著者名/発表者名
      横田久美子
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] リアルタイム放射光光電子分光によるSi(110)表面上数層の熱酸化膜形成過程の評価2010

    • 著者名/発表者名
      鈴木康
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] グラフェン・オン・シリコン形成過程のLEED, XPS観察2010

    • 著者名/発表者名
      高橋良太
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] 酸素添加によるSiC表面グラフェン化プロセスの低温化2010

    • 著者名/発表者名
      今泉京
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] SiO_2/Si界面酸化における格子歪みの役割(3):酸化誘起炭素濃縮による3C-siC成長2010

    • 著者名/発表者名
      穂積英彬
    • 学会等名
      2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(湘南キャンパス)
    • 年月日
      2010-03-17
  • [学会発表] 酸素によるSi(001)表面エッチングにおける炭素濃縮2010

    • 著者名/発表者名
      穂積英彬
    • 学会等名
      平成21年度日本表面科学会東北・北海道支部講演会
    • 発表場所
      仙台市
    • 年月日
      2010-03-10
  • [学会発表] Carbon condensation and 3C-SiC growth caused by oxidizing Si_<1-x>C_x alloy layers on Si(001)2010

    • 著者名/発表者名
      H.Hozumi
    • 学会等名
      The 5^<th> International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      2010-01-29
  • [学会発表] Thermal degradation process of deuterium ion implanted V_<25>Cr_<40>Ti_<35> using high-resolution soft x-ray synchrotron radiation photoelectron spectroscopy2010

    • 著者名/発表者名
      戸出真由美
    • 学会等名
      JAEA-Symposium on Synchrotron Radiation Research 2010-Material Science on Metal Hydide-
    • 発表場所
      Sayo, Japan
    • 年月日
      2010-01-25
  • [学会発表] Effect of vacuum ultraviolet exposure and surface oxide layer on the hydrogen desorption from hydrogeneated diamond-like carbon films2010

    • 著者名/発表者名
      田川雅人
    • 学会等名
      JAEA-Symposium on Synchrotron Radiation Research 2010-Material Science on Metal Hydide-
    • 発表場所
      Sayo, Japan
    • 年月日
      2010-01-25
  • [学会発表] ZrO_2ゲート絶縁膜を用いたGe MOSデバイスの界面設計2010

    • 著者名/発表者名
      細井卓治
    • 学会等名
      第15回ゲートスタック研究会
    • 発表場所
      東レ総合研修センター(三島市)
    • 年月日
      2010-01-22
  • [学会発表] Si_<1-x>C_x合金層/Si(001)表面における酸化誘起炭素拡散:酸化膜成長とエッチング条件での比較2010

    • 著者名/発表者名
      穂積英彬
    • 学会等名
      第15回ゲートスタック研究会
    • 発表場所
      東レ総合研修センター(三島市)
    • 年月日
      2010-01-22
  • [学会発表] 表面反応分析装置への走査型プローブ顕微鏡の導入-実空間"その場"観察の実現-2010

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
    • 発表場所
      イーグレ姫路(姫路)
    • 年月日
      2010-01-06
  • [学会発表] Si(111)-7x7表面の室温酸化の放射光XPS、LEEDおよびSTMによるリアルタイム観察2010

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
    • 発表場所
      イーグレ姫路(姫路)
    • 年月日
      2010-01-06
  • [学会発表] 酸素分子の並進運動エネルギーによるSi(111)-7x7表面の酸化反応の促進2010

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
    • 発表場所
      イーグレ姫路(姫路)
    • 年月日
      2010-01-06
  • [学会発表] 高分解能軟X線放射光光電子分光による重水素化VCrTi表面の熱安定化の評価2010

    • 著者名/発表者名
      戸出真由美
    • 学会等名
      第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
    • 発表場所
      イーグレ姫路(姫路)
    • 年月日
      2010-01-06
  • [学会発表] Nitidation of Al(111) by supersonic N_2 molecules2010

    • 著者名/発表者名
      Harries James
    • 学会等名
      第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
    • 発表場所
      イーグレ姫路(姫路)
    • 年月日
      2010-01-06
  • [学会発表] 表面変性層制御と水素脱離温度特性との相関研究-TiFe合金の熱処理による表面皮膜の変性-2009

    • 著者名/発表者名
      戸出真由美
    • 学会等名
      第3回水素貯蔵材料先端基盤研究事業技術検討会議
    • 発表場所
      産総研臨海副都心センター(東京都江東区)
    • 年月日
      2009-12-18
  • [学会発表] 放射光XPSによる熱酸化SiO2/4H-SiC界面のエネルギーバンド構造分析2009

    • 著者名/発表者名
      桐野嵩史
    • 学会等名
      SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会第18回講演会
    • 発表場所
      神戸国際会議(神戸)
    • 年月日
      2009-12-17
  • [学会発表] プラズマ窒化技術とAl0N/SiO2積層絶縁膜によるSiC-MOSデバイスの高機能化(招待講演)2009

    • 著者名/発表者名
      渡辺平司
    • 学会等名
      SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会第18回講演会
    • 発表場所
      神戸国際会議場(神戸)
    • 年月日
      2009-12-17
  • [学会発表] Real-time photoelectron spectroscopy study of 3C-SiC nucleation and growth on Si(001) surface by carbonization with ethylene2009

    • 著者名/発表者名
      H.Hozumi
    • 学会等名
      7^<th> International Synposimu on Atomic Layer Characterizations for New Materials and Devices '09
    • 発表場所
      The Westin Maui Resort & Spa, Maui, Hawaii, USA
    • 年月日
      2009-12-06
  • [学会発表] Photoemission spectroscopic analysis with synchrotron radiation for directnitridation of Al(111) by supersonic N_2 molecular beams2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Teraoka
    • 学会等名
      22^<nd> International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Sheraton Sapporo Hotel, Sapporo, Japan
    • 年月日
      2009-11-16
  • [学会発表] Chemical state resolved depth-profiling using XPS and the maximum entropy method2009

    • 著者名/発表者名
      H.James
    • 学会等名
      5^<th> International Workshop on High-Resolution Depth Profiling
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      2009-11-15
  • [学会発表] In situ XPS depth-profiling of hydrogen storage material VCrTi during thermal annealing2009

    • 著者名/発表者名
      J.Harries
    • 学会等名
      AVS 56^<TH> INTERNATIONAL SYMPOSIUM & EXHIBITION
    • 発表場所
      SAN JOSE CONVENTION CENTER/SAN JOSE, CALIFORNIA
    • 年月日
      2009-11-08
  • [学会発表] SPring-8 BL23SUの表面化学反応分析装置(SUREAC2000)における実空間"その場"観察の実現2009

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      第50回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      学習院大学、東京
    • 年月日
      2009-11-04
  • [学会発表] 重水素イオン注入した水素貯蔵材(V_<25>Cr_<40>Ti_<35>)の高分解能軟X線放射光光電子分光による自然酸化膜の熱安定性の評価2009

    • 著者名/発表者名
      戸出真由美
    • 学会等名
      第50回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      学習院大学、東京
    • 年月日
      2009-11-04
  • [学会発表] Si(111)-7x7表面酸化の促進と酸素分子の並進運動エネルギーの関係2009

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      第29回表面科学学術講演会
    • 発表場所
      タワーホール舟堀、東京
    • 年月日
      2009-10-27
  • [学会発表] 放射光表面化学反応分析装置に導入した走査型プローブ顕微鏡2009

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      第29回表面科学学術講演会
    • 発表場所
      タワーホール舟堀、東京
    • 年月日
      2009-10-27
  • [学会発表] Si(001)表面炭化反応における3C-SiC核発生の時間遅れ:表面近傍の臨界炭素濃度2009

    • 著者名/発表者名
      穂積英彬
    • 学会等名
      第29回表面科学学術講演会会
    • 発表場所
      タワーホール舟堀、東京
    • 年月日
      2009-10-27
  • [学会発表] グラフェン・オン・シリコシ表面構造のLEED観察2009

    • 著者名/発表者名
      高橋良太
    • 学会等名
      第29回表面科学学術講演会会
    • 発表場所
      タワーホール舟堀、東京
    • 年月日
      2009-10-27
  • [学会発表] Real-time observation of oxidation of Si(111)-7x7 surface at 300 K by using synchrotron radiation XPS, LEED and STM2009

    • 著者名/発表者名
      A.Yoshigoe
    • 学会等名
      International Workshop on Electronic Spectroscopy for Gas-phase molecules and solid surfaces (IWES2009), ICESS11 satellite workshop hosted by IMRAM, Tohoku University
    • 発表場所
      Hotel Taikanso, Matsushima, Sendai
    • 年月日
      2009-10-12
  • [学会発表] Chemical-state resolved depth-profiling using angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy and the maximum entropy method2009

    • 著者名/発表者名
      J.R.Harries
    • 学会等名
      International Workshop on Electronic Spectroscopy for Gas-phase molecules and solid surfaces (IWES2009), ICESS11 satellite workshop hosted by IMRAM, Tohoku University
    • 発表場所
      Hotel Taikanso, Matsushima, Sendai
    • 年月日
      2009-10-12
  • [学会発表] Strained Si atoms at SiO_2/Si interface during oxidation of Sil-xC alloy layer on Si(001) surfaces2009

    • 著者名/発表者名
      H.Hozumi
    • 学会等名
      International Workshop on Electronic Spectroscopy for Gas-phase molecules and solid surfaces (IWES2009), ICESS11 satellite workshop hosted by IMRAM, Tohoku University
    • 発表場所
      Hotel Taikanso, Matsushima, Sendai
    • 年月日
      2009-10-12
  • [学会発表] Enhancement of Carbon Diffusion caused by Thermal Oxidation on Sil-xCx Alloy Layer/Si(001) Surfaces2009

    • 著者名/発表者名
      H.Hozumi
    • 学会等名
      2009 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      2009-10-07
  • [学会発表] Epitaxy of Graphene on Si substrates toward Three-Dimensional Graphen Devices2009

    • 著者名/発表者名
      H.Fukidome
    • 学会等名
      2009 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      2009-10-07
  • [学会発表] Induced oxidation on Ni(111) by kinetic energy of O_2 molecular beams2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Teraoka
    • 学会等名
      ELEVENTH INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRONIC SPECTROSCOPY & STRUCTURE
    • 発表場所
      NARA, JAPAN
    • 年月日
      2009-10-06
  • [学会発表] X-ray photoemission study of oxidation process on Cu(110) surface using a hyperthermal O_2 moecular beam2009

    • 著者名/発表者名
      M.Hashinokuchi
    • 学会等名
      ELEVENTH INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRONIC SPECTROSCOPY & STRUCTURE
    • 発表場所
      NARA, JAPAN
    • 年月日
      2009-10-06
  • [学会発表] Synchrotron radiation photoemission study on native oxides of VCrTi ally and its modification by deuterium ion implantation2009

    • 著者名/発表者名
      Y.Teraoka
    • 学会等名
      10^<th> International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ACSIN 10)
    • 発表場所
      Granada, Spain
    • 年月日
      2009-09-22
  • [学会発表] 高分解能軟X線放射光光電子分光による重水素化VCrTiの表面分析2009

    • 著者名/発表者名
      戸出真由美
    • 学会等名
      社団法人 日本金属学会 9年秋期(第145回)大会
    • 発表場所
      京都大学吉田キャンパス
    • 年月日
      2009-09-15
  • [学会発表] 放射光X線光電子分光によるTiAl酸化過程の研究2009

    • 著者名/発表者名
      橋之口道宏
    • 学会等名
      2009年(平成21年)秋季第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学 五福キャンパス
    • 年月日
      2009-09-08
  • [学会発表] 界面特性に優れたAl_<2O>_3/ZrO_2/GeO_2積層構造のゲート絶縁膜の作製と評価2009

    • 著者名/発表者名
      岡本学
    • 学会等名
      2009年(平成21年)秋季第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学 五福キャンパス
    • 年月日
      2009-09-08
  • [学会発表] 4H-SiC(0001)面の熱酸化により形成したSiO_2/Si界面の放射光XPS評価2009

    • 著者名/発表者名
      桐野嵩史
    • 学会等名
      2009年(平成21年)秋季第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学 五福キャンパス
    • 年月日
      2009-09-08
  • [学会発表] SiO_2/Si界面酸化における格子歪みの役割(2):二次元島成長における炭素拡散2009

    • 著者名/発表者名
      穂積英彬
    • 学会等名
      2009年(平成21年)秋季第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学 五福キャンパス
    • 年月日
      2009-09-08
  • [学会発表] Si(111)-7×7表面の室温酸化のLEED、STMおよび放射光SPSによるリアルタイム観察2009

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆
    • 学会等名
      2009年(平成21年)秋季第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学 五福キャンパス
    • 年月日
      2009-09-08
  • [学会発表] Role of translational kinetic energy of O_2 in adsorption process on Si(111)-7×7 surface at room temperature2009

    • 著者名/発表者名
      A.Yoshigoe
    • 学会等名
      European Conference on Surface Science 26 (ECOSS 26)
    • 発表場所
      Parma, Italy
    • 年月日
      2009-08-30
  • [学会発表] Oxidation of Si(111)-7x7 enhanced by translational kinetic energy of O_22009

    • 著者名/発表者名
      A.Yoshigoe
    • 学会等名
      5^<th> International Workshop on Reactions Involving Oxygen & Hydrogen, SPring-8, JAEA-CMD OSAKA University Joint Seminor
    • 発表場所
      Osaka University
    • 年月日
      2009-06-17
  • [学会発表] Depth-profiling using angular-resolved X-ray photoelectron spectroscopy and the maximum entropy method2009

    • 著者名/発表者名
      H.James
    • 学会等名
      5^<th> International Workshop on Reactions Involving Oxygen & Hydrogen, SPring-8, JAEA-CMD OSAKA University Joint Seminor
    • 発表場所
      Osaka University
    • 年月日
      2009-06-17
  • [学会発表] High-temperature oxidation of titanuium-nickel alloy and its effect on the formation of protective layer2009

    • 著者名/発表者名
      T.Kasai
    • 学会等名
      5^<th> International Workshop on Reactions Involving Oxygen & Hydrogen, SPring-8, JAEA-CMD OSAKA University Joint Seminor
    • 発表場所
      Osaka University
    • 年月日
      2009-06-17
  • [学会発表] SR-XPS study on the native oxide of VCrTi and its modification by deuterium ion implantation2009

    • 著者名/発表者名
      M.Tode
    • 学会等名
      5^<th> International Workshop on Reactions Involving Oxygen & Hydrogen, SPring-8, JAEA-CMD OSAKA University Joint Seminor
    • 発表場所
      Osaka University
    • 年月日
      2009-06-17
  • [学会発表] Al(111)の窒化反応2009

    • 著者名/発表者名
      James HARRIES
    • 学会等名
      第25回化学反応討論会
    • 発表場所
      大宮ソニックシティー
    • 年月日
      2009-06-01
  • [学会発表] 放射光リアルタイム光電子分光で観たSi(111)表面の酸化過程2009

    • 著者名/発表者名
      吉越章隆, 寺岡有殿
    • 学会等名
      電気学会光・量子デバイス研究会
    • 発表場所
      神戸大学(神戸市)
    • 年月日
      2009-05-07
  • [産業財産権] グラフェンの形成方法およびグラフェンの形成装置2010

    • 発明者名
      寺岡有殿、吉越章隆、吹留博一、末光眞希、今泉京
    • 権利者名
      独立行政法人日本原子力研究開発機構、国立大学法人東北大学
    • 産業財産権番号
      特許番号:特願2010-45842
    • 出願年月日
      2010-03-02

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公開日: 2011-06-16   更新日: 2016-04-21  

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