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極端紫外光を用いた超微細加工は半導体製造用の次世代リソグラフィの最有力候補として期待され、もし、実現されれば、量子ビーム、特にイオン化放射線の産業利用は大きな新展開を迎えることとなる。しかし、量子ビームがナノ空間内に誘起する反応の詳細は不明のままであり、量子ビームの収束性を生かした将来のビーム利用のための基盤研究は進んでいないのが現状である。以上の背景の下、本研究では、極端紫外光がナノ空間に誘起する化学反応を、エネルギー付与過程から中間活性種の初期空間分布と空間分布の時間変化を含め解明することにより、将来、極端紫外光がナノ空間に誘起する現象を、次世代リソグラフィやナノリソグラフィにおいて使いこなすための学術基盤を確立することを目的とする。本年度はパルスラジオリシス測定装置の改良を行うとともに、レジストモデル化合物のパルスラジオリシスを行った。また、極端紫外光露光システム、電子線リソグラフィシステムを使用し、レジストモデルシステム中での反応中間体の挙動を解明した。さらにその生成過程を定式化し、シミュレーションと実験結果を比較することにより、反応中間体の空間分布および生成効率を明らかにした。
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