研究課題
基盤研究(C)
ハイドロキシアパタイト(HA)/酸化チタン(TiO2)薄膜の消臭性及び抗菌性を高めるため、膜厚最適化及び薄膜のパターン化を行い、評価を行った。その結果、HA膜の膜厚が0.2ミクロンの時、最も消臭性が高く、パターン化ではHA膜を櫛形パターンとすることで高い消臭性が得られた。しかし、抗菌性向上に関しては効果が認められなかった。また、可視光反応型光触媒作製では、成膜圧力10Pa、窒素ドープ量5%とすることで、最も高い活性が得られた。
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Applied Surface Science 253
ページ: 3397-3401
http://www.mech.ibaraki.ac.jp/ozeki-lab