| 研究概要 |
1.ヒドリド(ヒドロシリレン)ルテニウム錯体の反応性研究
タイトルのルテニウムシリレン錯体の反応性を調べ,この錯体が室温という温和な条件でニトリルと瞬時に反応し,ニトリルの炭素-炭素結合の切断を伴い,シリルイソシアニド錯体を定量的に生成するとこを見出した。タングステン類縁錯体では,ニトリルのヒドロシリル化反応が起きており,金属の違いで,これほど劇的に反応経路が変化したことは興味深い。さらに,ルテニウムシリレン錯体はオレフィンやアセチレンとも付加反応をすることを見出した。この結果も,タングステン類縁錯体では全く反応が進行しないことと対照的な結果である。さらに,ケトンとの反応では,a-水素を持つ場合には,a-水素引きにより,エンタイプの反応が進行した。他のケトンでは,ヒドロシリル化生成物が得られた。
2.新規ヒドリド(ヒドロシリレン)錯体の合成研究
タングステンおよびルテニウム以外の金属を中心金属とするヒドリド(ヒドロシリレン)錯体として,モリブデン錯体の合成を試みたが,生成は確認出来たものの,極めて不安定で単離にはいたらなかった。金属上の配位子等をより嵩高い置換基にする等の工夫が必要と考えられる。
3.タングステンのゲルマニウム類縁錯体の合成と反応性
ケイ素よりさらに高周期のゲルマニウム類縁錯体の合成に成功し,X線構造解析によりその構造を決定した。重水素化体の合成も行ない,その金属-水素の伸縮振動の比較から,この錯体にも,ヒドリド配位子とゲルミレン配位子との間に配位子間相互作用が有ることが明らかになった。また,このゲルミレンタングステン錯体も,ニトリルやケトンをヒドロシリル化することが分かった。
|
