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シリカゲル表面にアルキル鎖を表面修飾し、そこに溶媒抽出で用いられる抽出試薬を担持した新規分離材を合成した。この分離材を用いて遷移金属イオンの分離を行うと溶媒抽出法と比較して選択性が向上する。この原因がシリカゲルの細孔によるものと考え、細孔径の異なるケイ酸塩を用いて分離材を合成し、選択性の検討を行った。その結果、細孔径と選択性の関係は見られないことがわかった。
一方、応用研究としてシリカゲル上に負2価6座配位子であるH2Clbbpenを担持した分離材を合成し、GaとInの吸着実験を行った。その結果、溶媒抽出と同様の吸着機構で水相からGaとInを吸着することを明らかにした。
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