研究課題
基盤研究(C)
「高周波スパッタリング法」によりCaO 薄膜を形成し、成膜条件がその構造や形態、膜厚に及ぼす影響を検討した。その結果、スパッタ時間とともに薄膜はCa(OH)2 単一相からCaO との混合相に変化すること、高周波電源出力はほとんど影響を及ぼさないこと、基板温度が高いとCa(OH)2 のピークが消失し非晶質膜となること、などがわかった。また、1000℃で焼成した貝殻小片を模擬汚染水(60ppm-COD)中に浸漬すると、COD 値は最大50%程度まで減少することが確かめられた。
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