研究課題
基盤研究(C)
本研究では,イオンスパッタ膜を用いた疲労き裂発生の検出によって表面粗さと表面組織による三点曲げ疲労試験片の疲労き裂発生寿命,き裂進展寿命及び疲労寿命の変化を調べた.その結果,疲労き裂発生寿命は疲労寿命の約90%を占めており,表面粗さRaを1.27μmから0.03μmにすることでき裂発生寿命は2~3倍長くなること,また,浸炭焼き入れ試験片においては,表面異常層の除去によって,疲労寿命は明らかに増加し,疲労強度も同程度の向上が考えられることがわかった.
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ournal of Engineering Materials and Technology Vol.131,No.1
ページ: 011007-1-011007-6