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ゾルゲル法により作製した希土類(Er,Eu):Ti共ドープLiNbO_3厚膜を用いて光導波路型レーザ作製において重要となる、(1)各種欠陥および発光特性と希土類濃度との関係、(2)各種光導波路作製方法について検討を行った。膜中のTi(IV)イオンと希土類(III)イオンのモル濃度比が、3:1および3:2の場合、希土類イオンからの発光強度が著しく増幅される現象を見出した。また、ゾルゲル法で作製した膜をフェムト秒レーザで加工することによって、容易にチャンネル型光導波路が作製できることを明らかにした。
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