| 研究分担者 |
部家 彰 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (80418871)
宮本 修治 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (90135757)
天野 壮 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (50271200)
望月 孝晏 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (80101278)
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| 研究概要 |
レーザ・プラズマ軟X線(LPX)照射+エキシマ・レーザ(ELA)照射による二段階結晶化プロセスを検討し, LPX照射がELAの結晶化臨界エネルギー密度を小さくするという結果を得た. これは, LPX照射による擬似結晶核の形成を強く示唆するものであり, LPX照射により作製したSi薄膜を分光光度計, 電子スピン共鳴(ESR), 及び, エリプソメトリーによる測定を行い, 透過率変化, スピン密度, 及び, a-Si膜の相変化を明らかにした. その結果, a-Si薄膜表面層に低密度領域の微量結晶化膜が形成されており, 且つ, 不対結合電子対の密度が約1/2になる事が判明した. LPX照射により擬似結晶核が形成されている. LPX照射単独による低温結晶化技術の開発に向け大きく前進した
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