研究概要 |
多元素同時スパッタリング装置に誘導結合プラズマ生成用ループアンテナ及び基板へのパルス状負バイアス印加装置を取り付け,スパッタリング,基板加熱及び基板へのイオン照射が同時に実現できる装置を開発した.イオン照射しない場合は,400℃以下の基板温度では結晶化した薄膜は得られなかった.しかしながら,適切にイオン照射することで,結晶化した薄膜を200℃以下の基板温度で得ることが可能となった.ポリイミド上にTiNi合金薄膜を付与した素子は,良好な二方向形状回復動作を示した.この成果によって,フェロイック材料を低温で積層した素子が実現できると考えている.
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