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1.RSOsPR10のストレス応答時の免疫組織化学的手法を用いた発現部位の解析
イネ幼植物体におけるストレスに応答したRSOsPR10の組織レベルでの発現部位についての解析を行った。乾燥、塩、ジャスモン酸(JA)処理によるRSOsPR10の発現を免疫組織化学的手法により調べたところ、RSOsPR10はこれらの処理により維管束の周囲にある皮層細胞群で多量に発現していた。塩処理における経時的変化を調べると、RSOsPR10は維管束に最も近い皮層の細胞群から発現が始まることが分かった。また、JAと同時にサリチル酸(SA)を処理したところ、誘導はほぼ完全に抑制された。さらに、イネの根を高濃度スクロース溶液で処理し発現部位の観察により、RSOsPR10は細胞質に局在している可能性が極めて高いことがわかった。
2.RSOsPR10タンパク質発現誘導におけるJA/エチレンとSAの拮抗作用
SAによるRSOsPR10タンパク質発現誘導の抑制が転写レベルか、転写後修飾によるものか、あるいは翻訳レベルなのかについて検討をおこなった。その結果、SAによる抑制は転写レベルで起こっていることが分った。また、NaC1添加後の根におけるJA量の経時的は測定を行った(理研との共同研究)。さらに、これらの量がSA添加時にどのように変動するか、および、NaC1添加前後のSA量の変化についても検討を行った。その結果、塩処理に関してはJAの有意な変化は観察されなかった。JA合成ミュータントであるhebibaを用いての実験もおこなったが、明確な結論が得られなかったことから内生JAの関与についてより正確なJA内生量の測定を進める必要がある。
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