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胃を構成する平滑筋の膜性質は均一ではなく、静止膜電位は噴門部(Fundus)で浅く(〜-50mV)幽門部(Pylorus)で深い(〜-70mV)。我々は胃幽門部平滑筋の自発活動について調べ、活動頻度には電位依存性があり、脱分極で速くなり過分極で遅くなることを報告した。一方、胃の中で自発活動の頻度は部位により異なり、体部(Corpus)で最も速く、体部(Antrum)からPylorusに行くにしたがって遅くなる。この自発活動の部位差が膜電位に依存したものなのか、あるいはそれ以外に自発活動を規定する因子があり、部位により異なるのか不明である。そこで、本研究では歩調とり部位といわれるCorpusにおける平滑筋の自発活動の頻度が膜電位によってどのように変化し、それらを制御(あるいは規定)する因子が何であるか、モルモットから摘出した胃平滑筋組織を用いて調べた。通電あるいは外液K濃度を変化させることにより膜電位を変化させた。その結果、最も頻度の高いCorpus部位で膜を-70mVまで過分極させると緩電位の頻度は低下したが2〜3回/分までで、逆にAntrum部位で膜を-60mV付近まで脱文極させても頻度は2〜3回/分までしか上がらなかった。そこで、両部位ともに自発活動の頻度には電位依存性があるものの、自発活動の頻度の部位差は膜電位の差異だけでは説明できないことがわかった。これらの結果に基づき、次年度は電位依存性に影響をおよぼす因子について、同じ組織(モルモット胃組織)を用いて、更に検討を加えていくこととした。
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